[发明专利]电极涂层尺寸测量方法和装置

权利要求书

1.一种电极涂层尺寸测量方法，其特征在于，包括：

计算电极涂层图像中每个像素的梯度信息，得到所述电极涂层图像的方向梯度直方图；

根据所述方向梯度直方图，确定所述电极涂层图像中电极涂层侧边对应的梯度方向和倾斜角度；

根据所述梯度方向和所述倾斜角度，计算得到所述电极涂层的尺寸。

2.根据权利要求1所述的电极涂层尺寸测量方法，其特征在于，所述根据所述梯度方向和所述倾斜角度，计算得到所述电极涂层的尺寸，包括：

根据所述梯度方向和所述倾斜角度，对所述电极涂层图像进行采样，根据采样得到的多行像素得到像素向量；

计算所述像素向量中每个向量元素的梯度值，以根据所述梯度值得到梯度向量；

利用所述梯度向量，对所述电极涂层对粗定位；

根据所述粗定位的定位结果，确定所述电极涂层两个侧边的边缘过渡带；

对所述边缘过渡带进行梯度计算，将所述边缘过渡带中梯度最大的位置记为所述电极涂层两个侧边的边缘位置；

根据两个所述边缘位置之间的宽度尺寸，得到所述电极涂层的宽度尺寸。

3.根据权利要求2所述的电极涂层尺寸测量方法，其特征在于，所述根据所述梯度方向和所述倾斜角度，对所述电极涂层图像进行采样，根据采样得到的多行像素得到像素向量，包括：

计算所述电极涂层两个侧边对应的所述倾斜角度的平均角度；

沿着所述梯度方向旋转所述平均角度的方向，对所述电极涂层图像进行等距采样，得到多行像素；

根据每一行像素得到一个所述像素向量。

4.根据权利要求2所述的电极涂层尺寸测量方法，其特征在于，所述根据所述边缘过渡带，得到所述电极涂层的边缘位置，包括：

对所述边缘过渡带进行超像素处理，得到亚像素级边缘过渡带；

计算所述亚像素级边缘过渡带的梯度信息，将梯度最大位置记为所述电极涂层的边缘位置。

5.根据权利要求2所述的电极涂层尺寸测量方法，其特征在于，还包括：

基于金字塔迭代算法计算所述像素向量中每个向量元素的梯度值设定次数以得到符合预设精度的所述边缘位置。

6.根据权利要求1所述的电极涂层尺寸测量方法，其特征在于，所述计算电极涂层图像中每个像素的梯度信息，得到所述电极涂层图像的方向梯度直方图，包括：

基于水平边缘算子和垂直边缘算子计算电极涂层图像中每个像素的梯度信息；

根据所述梯度信息，统计每个所述像素的梯度方向和幅值，得到所述电极涂层图像的方向梯度直方图。

7.一种电极涂层尺寸测量装置，其特征在于，包括：

梯度计算模块，用于计算电极涂层图像中每个像素的梯度信息，得到所述电极涂层图像的方向梯度直方图；根据所述方向梯度直方图，确定所述电极涂层图像中电极涂层侧边对应的梯度方向和倾斜角度；

尺寸确定模块，用于根据所述梯度方向和所述倾斜角度，计算得到所述电极涂层的尺寸。

8.一种作业机械，包括作业机械本体，设置在所述作业机械本体上的存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述程序时实现如权利要求1至6任一项所述电极涂层尺寸测量方法。

9.一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述程序时实现如权利要求1至6任一项所述电极涂层尺寸测量方法。

10.一种非暂态计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至6任一项所述电极涂层尺寸测量方法。