[发明专利]偏光件、偏光板、以及偏光件的制造方法在审
申请号: | 202310024077.1 | 申请日: | 2023-01-09 |
公开(公告)号: | CN116577861A | 公开(公告)日: | 2023-08-11 |
发明(设计)人: | 井之原拓实;中西贞裕 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;B29D11/00;B32B33/00;B32B7/12;G02B1/10;G02B1/14;G02F1/1335;G02F1/1337 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;韩平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏光 以及 制造 方法 | ||
1.一种偏光件,其具有非偏光部,
所述偏光件包含具有磺酸盐基的溶致液晶材料和二色性物质,
所述磺酸盐基包含选自铵离子、碱土金属阳离子、过渡金属阳离子或贫金属阳离子中的抗衡阳离子。
2.根据权利要求1所述的偏光件,其中,
所述铵离子为在分子中具有2个以上氮原子的铵离子,
所述碱土金属阳离子选自Mg2+、Ca2+、Sr2+或Ba2+,
所述过渡金属阳离子选自La3+、Fe3+、Cr3+、Mn2+、Cu2+或Ce3+,
所述贫金属阳离子选自Al3+、Pb2+、Sn2+或Zn2+。
3.根据权利要求2所述的偏光件,其中,所述磺酸盐基包含Sr2+。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的偏光件,其中,所述偏光件中的除非偏光部以外的部分的偏光度为95%以上。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的偏光件,其中,所述偏光件的厚度为5μm以下。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的偏光件,其中,所述溶致液晶材料为具有包含环结构、与环结构键合的连接基团、以及所述磺酸盐基的结构单元的溶致液晶性聚合物,
所述连接基团连接包含在同一结构单元中的多个环结构、或连接包含在不同的结构单元中的环结构,且包含sp3碳和/或酰胺键。
7.一种偏光板,其具备:
权利要求1~6中任一项所述的偏光件、
配置在所述偏光件的厚度方向的一侧的保护层、以及
将所述偏光件粘接于所述保护层的底漆层。
8.一种偏光件的制造方法,其包括如下的工序:
在包含具有磺基和/或磺酸碱金属盐基的溶致液晶材料和二色性物质的偏光件上以偏光件的一部分露出的方式粘贴表面保护薄膜的工序;
使从所述表面保护薄膜露出的偏光件的一部分接触水而脱色,形成非偏光部的工序;以及
将所述表面保护薄膜从具有非偏光部的偏光件剥离后,使偏光件与处理液接触的工序,
所述处理液包含选自铵离子、碱土金属阳离子、过渡金属阳离子或贫金属阳离子中的至少1种阳离子。
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