[发明专利]一种过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜、其制备方法及其应用在审
| 申请号： | 202310008276.3 | 申请日： | 2023-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN115970515A | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 石国升;罗吴佳玥;陈俊杰;何正临;李云涨 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | B01D71/02 | 分类号： | B01D71/02;B01D67/00;B01D53/22 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人： | 顾勇华 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 过渡 金属 离子 改性 氧化 石墨 制备 方法 及其 应用 | ||
1.一种过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜的制备方法，其特征在于，步骤如下：
将氧化石墨烯膜溶液与含过渡金属离子的无机盐水溶液混合振荡，得到混合溶液；
以Al2O3陶瓷片为支撑基底，通过真空抽滤法制备过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜；
干燥后得到过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜。
2.如权利要求1所述的过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜的制备方法，其特征在于，所述的过渡金属离子为Ni2+、Fe3+、Cu2+、Zn2+、Mn2+或Cr3+。
3.如权利要求1所述的过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜的制备方法，其特征在于，所述的混合溶液中，过渡金属离子浓度为0.005～0.5mmol/L；所述的振荡混合时间为10～30min。
4.如权利要求1所述的过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜的制备方法，其特征在于，所述的Al2O3陶瓷片支撑基底孔径为0.1～0.5μm。
5.如权利要求1所述的过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜的制备方法，其特征在于，所述的干燥温度为50～80℃，干燥时间为8～20h。
6.一种过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜，其特征在于：利用权利要求1所述的过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜的制备方法制备而成。
7.一种过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜的应用，其特征在于：利用权利要求6所述的过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜对气体混合物进行处理，进行气体纯化。
8.如权利要求7所述的过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜的应用，其特征在于，气体混合物为氮气和挥发性芳香族化合物的混合物，气体混合物中挥发性芳香族化合物的浓度为5～80ppm。
9.如权利要求7所述的过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜的应用，其特征在于，气体混合物的相对湿度为40％～80％。
10.如权利要求7所述的过渡金属离子改性的氧化石墨烯膜的应用，其特征在于，气体混合物进料流速为100～1000mL/min，操作温度为15～28℃，压力差为0～1.5bar。
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