[实用新型]清洁基站和清洁系统

权利要求书

1.一种清洁基站，其特征在于，包括：

壳体；

排污部，所述排污部设置在所述壳体上；

收液部，所述收液部设置在所述壳体上，所述排污部连通于所述收液部；

加热组件，所述加热组件设置在所述排污部的一侧，用于为所述排污部提供热能。

2.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述排污部包括：

排污管，所述排污管连通于所述收液部；

排污槽，所述排污槽连通于所述排污管。

3.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述加热组件包括：

导热板，所述导热板设置在所述排污槽的一侧，所述导热板用于为所述排污槽提供热能；

热源，所述热源设置在所述导热板背离于所述排污槽的一侧，所述热源用于为所述导热板提供热能。

4.根据权利要求3所述的清洁基站，其特征在于，

所述导热板由金属材料制成，所述导热板的厚度为0.8mm至3mm。

5.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述排污槽由导热材料制成，所述加热组件包括热源，所述热源设置在所述排污槽的一侧，用于为所述排污槽提供热量。

6.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，

所述排污管包括吸液段和止回段，所述吸液段连通于所述排污槽和所述收液部，所述止回段位于所述吸液段的中段。

7.根据权利要求6所述的清洁基站，其特征在于，

所述止回段包括至少一个弯折部。

8.根据权利要求7所述的清洁基站，其特征在于，所述弯折部包括：S形弯折、V形弯折和U形弯折中的至少一种。

9.根据权利要求7所述的清洁基站，其特征在于，所述止回段为两个或两个以上。

10.根据权利要求1至7中任一项所述的清洁基站，其特征在于，还包括：

隔热部，设置在所述加热组件背离于所述排污部的一侧。

11.根据权利要求10所述的清洁基站，其特征在于，

所述隔热部包括：第一隔热层，设置在所述加热组件背离于所述排污部的一侧；

其中，所述第一隔热层上形成有避让部，所述避让部用于避让所述加热组件上的器件。

12.根据权利要求10所述的清洁基站，其特征在于，所述隔热部包括：

第一空气间隙，形成于所述加热组件背离于所述排污部的一侧；

第一散热孔，开设在所述清洁基站的侧部，导通至所述第一空气间隙。

13.根据权利要求10所述的清洁基站，其特征在于，所述隔热部包括：

第二隔热层，设置在所述加热组件背离于所述排污部的一侧；

第二空气间隙，形成于所述第二隔热层背离于所述排污部的一侧；

第二散热孔，开设在所述清洁基站的侧部，导通至所述第二空气间隙；

其中，所述第二隔热层上形成有避让部，所述避让部用于避让所述加热组件上的器件。

14.根据权利要求10所述的清洁基站，其特征在于，还包括：

底盖，所述底盖设置在所述隔热部背离于所述加热组件的一侧。

15.根据权利要求1至7中任一项所述的清洁基站，其特征在于，还包括：

过滤部，所述过滤部覆盖在所述排污部上，所述过滤部上形成有多个通孔。

16.根据权利要求15所述的清洁基站，其特征在于，

所述通孔的疏密度与所述排污部的排污槽的深度呈正相关。

17.一种清洁系统，其特征在于，包括：

如权利要求1至16中任一项所述的清洁基站；

清洁设备，所述清洁基站用于清洁所述清洁设备。