[实用新型]镀膜设备

权利要求书

1.镀膜设备，其特征在于，包括：

仓体，具有容置腔；

放卷机构，设置于所述容置腔内，用于对基材放卷；

收卷机构，设置于所述容置腔内，用于对镀膜完成后的所述基材收卷；

供铝装置，沿所述基材由所述放卷机构至所述收卷机构的输送路径，所述供铝装置位于所述放卷机构与所述收卷机构之间，所述供铝装置包括供铝口，所述供铝口用于在所述基材上镀铝膜；

供氧装置，位于所述供铝装置的下游，用于向所述基材供氧，使所述铝膜氧化。

2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括第一隔板，所述第一隔板设置于所述供铝装置与所述供氧装置之间，以隔开所述供氧装置与所述供铝装置所在的空间。

3.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述供氧装置为离子源。

4.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括镀膜鼓，所述镀膜鼓位于所述容置腔内，所述镀膜鼓的外周面能够贴合于所述基材，所述供铝口朝向所述镀膜鼓。

5.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括冷却装置，所述冷却装置设置于所述镀膜鼓的内部。

6.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括张紧辊，所述镀膜鼓的上下游均设置有所述张紧辊，使所述基材紧贴所述镀膜鼓的表面。

7.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述供铝装置包括送丝机构以及加热器，所述送丝机构用于将铝材输送至所述加热器。

8.根据权利要求7所述的镀膜设备，其特征在于，所述加热器为坩埚、感应线圈以及电气束蒸发器中的至少一种。