[实用新型]一种用于高纯晶硅生产废水回用的处理装置

说明书

本实用新型属于废水处理技术领域，具体涉及一种用于高纯晶硅生产废水回用的处理装置，其包括旋流沉砂池、膜直滤过滤器、RO装置、回用水箱、污泥处理器和蒸发结晶装置，其中所述膜直滤过滤器上设有药剂投加装置，并且其进水端与所述旋流沉砂池连通，产水端与所述RO装置连通，污泥端与所述污泥处理器连通；所述RO装置的产水端与所述回用水箱连通，浓水端与所述蒸发结晶装置连通。上述装置通过采用膜直滤过滤器进行除硅除浊，改变传统技术中对于高悬浮物类逐级逐段降低的方式，且产水水质更优异。

技术领域

本实用新型属于废水处理技术领域，具体涉及一种用于高纯晶硅生产废水回用的处理装置。

背景技术

高纯晶硅生产废水的成分比较复杂，含有大量的溶硅(大于400mg/L)、很高的悬浮物(大于10000mg/L)，并且悬浮物中包含了大量去除难度大的超细悬浮物。此外，废水的pH很低，通常在1-2之间。

在高纯晶硅生产废水处理中，目前常用的工艺多为“4级～6级的多级沉淀+多介质+超滤+阳床+RO+二次沉淀池+蒸发结晶”。需要多级加药沉淀使水中的悬浮物逐级去除，并同时去除部分溶硅，后再进入多介质过滤器和超滤去除水中残留的悬浮物及浊度，再经过离子交换去除水中的碳酸根、硅酸根、亚硫酸根等弱酸根离子，除杂后的水进入RO系统浓缩减量，浓缩液经过二次沉淀池的再次加药沉淀去除硅、悬浮物等污染物，最后进入蒸发结晶系统。“4级～6级的多级沉淀”采用多种不同方式的沉淀组合，停留时间为100min以上。

但是，目前常用工艺流程存在以下问题：第一，需要先经过多级重力沉淀，需要投加大量的无机絮凝剂及高分子絮凝剂，加药成本高且对后续工艺系统运行有影响；第二、多级加药沉淀的除硅不彻底，产水硅高于50mg/L，常达到100mg/L左右，不仅会在沉淀池斜板上堆积，而且会对超滤和RO的运行产生影响。另外，经过RO的浓缩，在进蒸发结晶前需要在“二次沉淀池”进行二次加药沉淀以可能保障蒸发结晶的稳定运行，但二次沉淀效果通常较差；第三、传统高纯晶硅生产废水处理工艺流程长、设备多、占地面积大、运行费用高；第四、在沉淀池中依靠重力使悬浮物沉淀，所排出的污泥浓度低，只有2％～3％，增加污泥处理系统的负担。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于高纯晶硅生产废水回用的处理装置，以至少部分上述问题。

本实用新型提供一种用于高纯晶硅生产废水回用的处理装置，包括旋流沉砂池、膜直滤过滤器、RO装置、回用水箱、污泥处理器和蒸发结晶装置，其中所述膜直滤过滤器上设有药剂投加装置，并且其进水端与所述旋流沉砂池连通，产水端与所述RO装置连通，污泥端与所述污泥处理器连通；所述RO装置的产水端与所述回用水箱连通，浓水端与所述蒸发结晶装置连通。

本实用新型提供的一种用于高纯晶硅生产废水回用的处理装置还可具有如下附加技术特征：

在本实用新型的一个具体实施方式中，还包括污泥收集池和过滤器产水箱，所述污泥收集池设置于所述膜直滤过滤器与所述污泥处理器之间，所述过滤器产水箱设置于所述膜直滤过滤器与所述RO装置之间。

在本实用新型的一个具体实施方式中，还包括pH调节装置和pH回调装置，所述pH调节装置与所述膜直滤过滤器连接，所述pH回调装置设于所述膜直滤过滤器与所述过滤器产水箱之间。

在本实用新型的一个具体实施方式中，还包括依次连接于所述过滤器产水箱与所述RO装置之间的RO加药装置和RO保安过滤器。

在本实用新型的一个具体实施方式中，还包括连接于所述过滤器产水箱与所述RO加药装置之间的RO给水泵、以及连接于RO保安过滤器和所述RO装置之间的RO高压泵。

在本实用新型的一个具体实施方式中，还包括RO浓水箱，所述RO浓水箱设于所述RO装置与所述蒸发结晶装置之间。