[实用新型]一种抗反射玻璃盖板

说明书

本公开涉及一种抗反射玻璃盖板，包括玻璃基板、粗化层和减反增透膜层；所述玻璃基板包括内表面和外表面；所述粗化层一体地形成于所述玻璃基板的外表面上；所述减反增透膜层覆于所述粗化层的表面；所述减反增透膜层包括沿所述玻璃基板厚度方向交替堆叠的低折膜层和高折膜层；所述粗化层的表面与所述低折膜层接触。能够实现极致黑效果，还并能够避免在玻璃电池盖应用中受限于天线净空的问题。

技术领域

本公开涉及电池盖板领域，具体地，涉及一种抗反射玻璃盖板。

背景技术

在手机玻璃电池盖上实现极致黑的外观效果近来备受关注，是各大手机厂商高端旗舰项目的开发热点，但常规喷涂黑色油墨的方案，成品电池盖外观往往泛白、发雾，存在诸多杂散光反射，影响整机精致度。

目前极致黑的文献专利主要集中于相机镜筒内侧处理，防止出现串光影响成像质量，实现的路径主要为喷涂黑色油墨(油墨中添加增黑填料，例如碳管，碳粉等)或者PVD沉积金属吸收膜(具有很高的消光系数，达到消除光泽目的)，但是以上方案受限于可靠性或者天线净空，都无法应用于玻璃电池盖表面。

实用新型内容

本公开的目的是提供一种抗反射玻璃盖板，能够实现极致黑效果，还并能够避免在玻璃电池盖应用中受限于天线净空的问题。

为了实现上述目的，本公开提供一种抗反射玻璃盖板，包括玻璃基板、粗化层和减反增透膜层；所述玻璃基板包括内表面和外表面；所述粗化层一体地形成于所述玻璃基板的外表面上；所述减反增透膜层覆于所述粗化层的表面；所述减反增透膜层包括沿所述玻璃基板厚度方向交替堆叠的低折膜层和高折膜层；所述粗化层的表面与所述低折膜层接触。

可选地，所述低折膜层的低折膜材料包括SiO₂；所述高折膜层的高折膜材料包括Si₃N₄。

可选地，由所述粗化层的表面起，所述减反增透膜层沿所述玻璃基板的厚度方向依次包括第一低折膜层、第一高折膜层、第二低折膜层、第二高折膜层和第三低折膜层。

可选地，所述减反增透膜层表面对于420～680nm波长范围内的光线的反射率为1％以下。

可选地，所述粗化层具有纹理结构；所述纹理结构的粗糙度为0.5～1.5；所述纹理结构的高度为10～40μm。

可选地，所述纹理结构具有多个凸部和多个凹部；其中任意两个所述凸部之间形成一个所述凹部；所述第一低折膜层与所述凹部直接接触。

可选地，所述玻璃基板的内表面覆有黑色油墨层。

可选地，所述玻璃基板的内表面覆有多层黑色油墨层，黑色油墨层的单层厚度为10～20μm；所述玻璃基板的内表面的黑色油墨层总厚度为50～70μm。

可选地，所述抗反射玻璃盖板整体的La*b*结果中：L值为15以下。

可选地，所述抗反射玻璃盖板对于420～680nm波长范围内的光线的反射率为1％以下。

通过上述技术方案，本公开提供了一种抗反射玻璃盖板，该玻璃盖板通过“粗化层+减反增透膜层”的结构可以实现极致黑效果，成品的可见光波段平均反射率低；还能够满足在手机电池盖板应用中对于整机可靠性的要求；并且减反增透膜层作为介质膜，不含金属，还能够避免对天线、无线充、NFC等功能产生负向影响。

本公开的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本公开的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本公开，但并不构成对本公开的限制。在附图中：

图1为本公开提供的抗反射玻璃盖板的结构示意图；

图2为本公开提供的减反增透膜层的结构示意图；