[实用新型]一种KTN晶体清洗装置

说明书

一种KTN晶体清洗装置，包括固定座、夹持模块、冲洗模块和擦拭模块，所述固定座的中间设置有清洗槽，所述夹持模块由两只对称设置的夹爪组成，所述夹爪与固定座转动连接，两只所述夹爪的头部对称伸入清洗槽中，所述冲洗模块包括冲洗喷头，所述冲洗喷头设置在清洗槽中且朝向两只夹爪的头部之间，所述冲洗喷头还通过管道连接有冲洗泵，所述擦拭模块设置在两只夹爪的头部上方，与固定座转动连接，其下端伸入清洗槽中，下端的下侧贴合有无尘布，其上端从固定座的上方伸出，所述擦拭模块下端的无尘布与被夹持的KTN晶体表面发生相对转动，从而实现对KTN晶体的擦拭清洁，能够有效提升KTN晶体的清洗效率。

技术领域

本实用新型涉及KTN晶体制造技术领域，具体为一种KTN晶体清洗装置。

背景技术

KTN晶体是钽酸钾和铌酸钾两种晶体的固溶体混晶，全称为钽铌酸钾晶体。KTN晶体因为具有优异的电光性能和光折变性能，因此在全固态激光等激光技术领域都具有广泛的应用。

目前KTN晶体的制造主要包括以下6个步骤：定向、切割、组方、研磨、抛光和涂覆保护膜。在抛光之后涂覆保护膜之前，一般都需要使用丙酮或酒精对KTN晶体进行冲洗，然后使用无尘布进行擦拭，以此来清除掉晶体表面附着的打磨下来的残渣。

而一般对KTN晶体的清洗都是人工手动完成的，手工操作效率低，清洗效果参差不齐，且研磨抛光之后的KTN晶体表面十分光滑，十分容易从清洗工人的手中脱落，导跌落损坏。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种KTN晶体清洗装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种KTN晶体清洗装置，包括固定座、夹持模块、冲洗模块和擦拭模块，所述固定座的中间设置有清洗槽，所述清洗槽的前后两侧贯穿固定座，所述夹持模块由两只对称设置的夹爪组成，所述夹爪与固定座转动连接，两只所述夹爪的头部对称伸入清洗槽中，KTN晶体能够被两只所述夹爪的头部夹在中间进行固定，所述冲洗模块包括冲洗喷头，所述冲洗喷头设置在清洗槽中且朝向两只夹爪的头部之间，所述冲洗喷头还通过管道连接有冲洗泵，所述冲洗泵能够抽取清洗用的丙酮或酒精从冲洗喷头中喷出，所述擦拭模块设置在两只夹爪的头部上方，与固定座转动连接，其下端伸入清洗槽中，下端的下侧贴合有无尘布，其上端从固定座的上方伸出，所述擦拭模块下端的无尘布与被夹持的KTN晶体表面发生相对转动，从而实现对KTN晶体的擦拭清洁，能够有效提升KTN晶体的清洗效率。

如上所述的一种KTN晶体清洗装置，所述夹持模块包括左夹爪和右夹爪，所述左夹爪和右夹爪都包括第一连接杆和夹爪头，所述夹爪头设置在第一连接杆伸入清洗槽中的一端，所述夹爪头的形状包括半圆弧形，KTN晶体能够被夹持在左夹爪和右夹爪的夹爪头之间，所述右夹爪的夹爪头的两端设置朝向左夹爪的夹爪头伸出的同步插条，所述左夹爪的夹爪头的两端在同步插条的相对位置设置有同步插孔，所述同步插条插入同步插孔中之后，能够实现左夹爪与右夹爪的同步连接。

进一步的，所述右夹爪的第一连接杆远离其夹爪头的一端设置有第一曲柄摇杆。清洗工人可通过转动第一曲柄摇杆带动整个夹持模块进行转动。

进一步的，所述夹爪头在与KTN晶体边缘接触的位置设置有固定槽，所述固定槽能够容纳KTN晶体的边缘嵌入。

进一步的，所述右夹爪的第一连接杆在与清洗槽内壁和固定座外壁接触位置都固定套设有限位盘扣，两个所述限位盘扣之间的距离与清洗槽内壁和固定座外壁之间的距离相配合，所述限位盘扣的直径大于右夹爪的第一连接杆直径，从而使两个所述限位盘扣能够固定右夹爪与固定座的相对位置。

进一步的，所述左夹爪的夹爪头与清洗槽内壁之间的第一连接杆上套设有第一复位弹簧，所述左夹爪的第一连接杆远离夹爪头的一端设置有拉动片。清洗工人可通过拉动片拉动左夹爪相对右夹爪进行左右滑动。