[实用新型]一种KTN晶体清洗装置

权利要求书

1.一种KTN晶体清洗装置，其特征在于，包括固定座(1)、夹持模块(2)、冲洗模块(3)和擦拭模块(4)，所述固定座(1)的中间设置有清洗槽(11)，所述清洗槽(11)的前后两侧贯穿固定座(1)，所述夹持模块(2)由两只对称设置的夹爪组成，所述夹爪与固定座(1)转动连接，两只所述夹爪的头部对称伸入清洗槽(11)中，所述冲洗模块(3)包括冲洗喷头(31)，所述冲洗喷头(31)设置在清洗槽(11)中且朝向两只夹爪的头部之间，所述冲洗喷头(31)还通过管道连接有冲洗泵，所述冲洗泵能够抽取清洗用的丙酮或酒精从冲洗喷头(31)中喷出，所述擦拭模块(4)设置在两只夹爪的头部上方，与固定座(1)转动连接，其下端伸入清洗槽(11)中，下端的下侧贴合有无尘布(44)，其上端从固定座(1)的上方伸出。

2.根据权利要求1所述的一种KTN晶体清洗装置，其特征在于，所述夹持模块(2)包括左夹爪(21)和右夹爪(22)，所述左夹爪(21)和右夹爪(22)都包括第一连接杆(23)和夹爪头(24)，所述夹爪头(24)设置在第一连接杆(23)伸入清洗槽(11)中的一端，所述夹爪头(24)的形状包括半圆弧形。

3.根据权利要求2所述的一种KTN晶体清洗装置，其特征在于，所述右夹爪(22)的夹爪头(24)的两端设置朝向左夹爪(21)的夹爪头(24)伸出的同步插条(25)，所述左夹爪(21)的夹爪头(24)的两端在同步插条(25)的相对位置设置有同步插孔。

4.根据权利要求3所述的一种KTN晶体清洗装置，其特征在于，所述右夹爪(22)的第一连接杆(23)远离其夹爪头(24)的一端设置有第一曲柄摇杆(26)。

5.根据权利要求4所述的一种KTN晶体清洗装置，其特征在于，所述夹爪头(24)在与KTN晶体边缘接触的位置设置有固定槽(27)，所述固定槽(27)能够容纳KTN晶体的边缘嵌入。

6.根据权利要求5所述的一种KTN晶体清洗装置，其特征在于，所述右夹爪(22)的第一连接杆(23)在与清洗槽(11)内壁和固定座(1)外壁接触位置都固定套设有限位盘扣(28)，两个所述限位盘扣(28)之间的距离与清洗槽(11)内壁和固定座(1)外壁之间的距离相配合，所述限位盘扣(28)的直径大于右夹爪(22)的第一连接杆(23)直径。

7.根据权利要求6所述的一种KTN晶体清洗装置，其特征在于，所述左夹爪(21)的夹爪头(24)与清洗槽(11)内壁之间的第一连接杆(23)上套设有第一复位弹簧(29)，所述左夹爪(21)的第一连接杆(23)远离夹爪头(24)的一端设置有拉动片(211)。

8.根据权利要求1所述的一种KTN晶体清洗装置，其特征在于，所述固定座(1)在与擦拭模块(4)转动连接的位置设置有擦拭孔(12)，所述擦拭模块(4)从上到下依次包括第二曲柄摇杆(41)、第二连接杆(42)和擦拭盘(43)，所述擦拭孔(12)从上到下依次为连杆段(13)和擦拭段(14)，所述连杆段(13)的直径与第二连接杆(42)的直径相配合，所述擦拭段(14)的直径与擦拭盘(43)的直径相配合，所述擦拭盘(43)朝向清洗槽(11)的一面设置有无尘布(44)。

9.根据权利要求8所述的一种KTN晶体清洗装置，其特征在于，所述第二曲柄摇杆(41)上在固定座(1)上表面与第二连接杆(42)下端之间套设有第二复位弹簧(45)。

10.根据权利要求9所述的一种KTN晶体清洗装置，其特征在于，所述冲洗模块(3)包括两个冲洗喷头(31)，两个所述冲洗喷头(31)分别设置在清洗槽(11)中夹持模块(2)的前后两侧。