[实用新型]一种熔断器测试电阻用双桥法工装

权利要求书

1.一种熔断器测试电阻用双桥法工装，其特征在于，包括基座，在所述基座上相对间隔设置有可相对位移的两组导电的桥状结构，两组所述桥状结构呈V型设置；在两组所述桥状结构上设置有放置熔断器的放置空间。

2.根据权利要求1所述的熔断器测试电阻用双桥法工装，其特征在于，在所述基座上相对间隔设置有两组支架结构，在每组所述支架结构上设置有一组所述桥状结构。

3.根据权利要求2所述的熔断器测试电阻用双桥法工装，其特征在于，在所述基座上设置有至少一条滑轨，所述支架结构设置在所述滑轨上。

4.根据权利要求3所述的熔断器测试电阻用双桥法工装，其特征在于，每组所述支架结构包括高度不同、顶部宽度不同的两支架，所述桥状结构设置在两所述支架上；两组所述支架结构相邻一端的所述支架高度及宽度比远离的所述支架的高度及宽度小。

5.根据权利要求1至4任一所述的熔断器测试电阻用双桥法工装，其特征在于，每组所述桥状结构包括间隔且倾斜设置的两导电杆，两所述导电杆两端间距不同；两组所述桥状结构相邻一端的两所述导电杆之间的间距最小。