[实用新型]一种平面阴极供气系统管路

说明书

本实用新型公开一种平面阴极供气系统管路，属于平面阴极配套设备技术领域。该平面阴极供气系统管路包括管路座以及沿长度方向设置于管路座上的多个上压条；管路座的其中一面上开设有至少一个主气口，另一面上至少开设有一个辅气口；每个主气口依次连接主一级分气路、主二级分气路和主三级分气路，且主三级分气路与管路座上开设的缓冲室，使得主气口的气流经过主一级分气路、主二级分气路和主三级分气路后进入缓冲室；每个辅气口依次连接辅一级分气路、辅二级分气路和辅三级分气路；每个上压条内至少开设有一个混合腔，缓冲室以及每个辅气口的辅三级分气路端部均与混合腔连通，使得主气口与辅气口导入的气体在混合腔内进行混合。

技术领域

本实用新型涉及片平面阴极配套设备技术领域，特别涉及一种平面阴极供气系统管路。

背景技术

真空镀膜是一种在真空中制备膜层产生薄膜材料的技术，有三种形式；即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。其中溅射镀膜是真空镀膜中最主要的方法，该技术是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上。

在磁控溅射镀膜工艺中，平面阴极的供气装置的优劣尤为重要，但目前的供气装置如专利号为201420253843.8公开的专利，均是采用分开供气的形式进行阴极平台内部的供气，在每一个管路座只能分流一种气体，但磁控溅射镀膜工艺中通常需要导入多种工艺气体，导致单一分路的管路座难以满足使用需求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种平面阴极供气系统管路，以解决现有的管路座只能分流一种气体，导致磁控溅射镀膜工艺中的多种工艺气体难以同是导入，无法满足使用需求的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种平面阴极供气系统管路，包括管路座以及沿长度方向设置于所述管路座上的多个上压条；

所述管路座的其中一面上开设有至少一个主气口，另一面上至少开设有一个辅气口；

每个所述主气口依次连接主一级分气路、主二级分气路和主三级分气路，且主三级分气路与所述管路座上开设的缓冲室，使得主气口的气流经过主一级分气路、主二级分气路和主三级分气路后进入所述缓冲室；

每个所述辅气口依次连接辅一级分气路、辅二级分气路和辅三级分气路；

每个所述上压条内至少开设有一个混合腔，所述缓冲室以及每个所述辅气口的辅三级分气路端部均与所述混合腔连通，使得主气口与所述辅气口导入的气体在所述混合腔内进行混合。

优选的，每个所述上压条上均开设有出气口，通过所述出气口将所述混合腔内的混合气体导入真空室。

优选的，所述主气口开设有两个，分别为对称分布于所述管路座两侧的第一主气口和第二主气口。

优选的，所述主气口的主一级分气路为单一气路，而主二级分气路和主三级分气路均为一分为二气路结构，使得每个所述主气口经主一级分气路、主二级分气路和主三级分气路分流后形成四条分气流进入缓冲室。

优选的，所述缓冲室开设有两个，分别用于缓冲第一主气口和第二主气口导入的气体。

优选的，所述辅气口开设有9个，均匀分布于所述管路座上。

优选的，每个所述辅气口的辅一级分气路为单一气路，而辅二级分气路和辅三级分气路均为一分为二气路结构，使得每个所述辅气口经辅一级分气路、辅二级分气路和辅三级分气路分流后形成四条分气流。

优选的，所述上压条设有9个，每个所述上压条中开设有4个混合腔，每个混合腔均对应辅三级分气路端部的一条气流。

优选的，所述上压条密封连接于所述管路座上，所述缓冲室通过多条第一流道分别与所述混合腔连通，所述辅三级分气路端部分别通过第二流道与所述混合腔连通，使得主气口与辅气口的气体在所述混合腔内均匀混合。