[实用新型]一种旋转阴极供气系统管路

说明书

本实用新型公开一种旋转阴极供气系统管路，属于旋转阴极配套设备技术领域。该旋转阴极供气系统管路包括管路座，所述管路座的其中一面上开设有一个主气口和多个辅气口；所述主气口依次连接主一级分气路、主二级分气路、主三级分气路和主四级分气路；每个所述辅气口依次连接辅一级分气路、辅二级分气路和辅三级分气路；所述管路座的另一面上间隔开设有多个缓冲室，所述主四级分气路以及辅三级分气路端部均贯穿所述管路座与对应的所述缓冲室连通。该旋转阴极供气系统管路通过多个均匀间隔分布的缓冲室将工作气体均匀地导入真空室的各个部分，从而实现工作气体的均匀分布和均匀控制。

技术领域

本实用新型涉及旋转阴极配套设备技术领域，特别涉及一种旋转阴极供气系统管路。

背景技术

真空镀膜是一种在真空中制备膜层产生薄膜材料的技术，有三种形式；即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。其中溅射镀膜是真空镀膜中最主要的方法，该技术是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上。

在磁控溅射镀膜工艺中，旋转阴极的供气装置的优劣尤为重要，但目前的供气装置如专利号为201420253843.8公开的专利，均是采用分开供气的形式进行阴极平台内部的供气，在每一个管路座只能分流一种气体，但磁控溅射镀膜工艺中通常需要导入多种工艺气体，导致单一分路的管路座难以满足使用需求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种旋转阴极供气系统管路，以解决现有的管路座只能分流一种气体，导致磁控溅射镀膜工艺中的多种工艺气体难以同是导入，无法满足使用需求的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种旋转阴极供气系统管路，包括管路座，

所述管路座的其中一面上开设有一个主气口和多个辅气口；

所述主气口依次连接主一级分气路、主二级分气路、主三级分气路和主四级分气路；

每个所述辅气口依次连接辅一级分气路、辅二级分气路和辅三级分气路；

所述管路座的另一面上间隔开设有多个缓冲室，所述主四级分气路以及辅三级分气路端部均贯穿所述管路座与对应的所述缓冲室连通。

优选的，所述主一级分气路、主二级分气路和主四级分气路均为一分为二气路结构。

优选的，所述主三级分气路为一分为三气路结构，所述主气口的气流经主一级分气路、主二级分气路、主三级分气路和主四级分气路分流后形成24条分气流。

优选的，所述辅气口开设有五个，分别为第一辅气口、第二辅气口、第三辅气口、第四辅气口和第五辅气口；其中第二辅气口以及第三辅气口和第四辅气口以及第五辅气口对称分布于第一辅气口两侧。

优选的，所述第一辅气口的辅一级分气路、辅二级分气路和辅三级分气路均为一分为二气路结构，使得所述第一辅气口的气流经辅一级分气路、辅二级分气路和辅三级分气路分流后形成8条分气流；

而第二辅气口、第三辅气口、第四辅气口和第五辅气口的辅一级分气路为单一气路，辅二级分气路和辅三级分气路为一分为二气路结构，使得所述第二辅气口、第三辅气口、第四辅气口和第五辅气口的气流辅一级分气路、辅二级分气路和辅三级分气路分流后形成16条分气流。

优选的，所述管路座上间隔设置有多个缓冲块，所述缓冲室为腰型，开设于所述缓冲块上。

优选的，所述主四级分气路以及辅三级分气路端部分别贯穿腰型缓冲室两端。

优选的，所述缓冲块的中间位置开设有混合气体分路，所述混合气体分路与缓冲室连通，用于导出缓冲室内混合均匀的气体。

优选的，所述混合气体分路从缓冲室中间向两侧延伸。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：