[实用新型]一种检测设备

说明书

一种检测设备，包括用于获取被测件上预定特征的预扫描组件和获取被测件的检测信息的检测组件，预扫描组件被配置成优先于检测组件扫描被测件，以在检测组件扫描到预定特征的位置时，检测设备自第一状态切换至第二状态；在第一状态下，被测件接收到具有第一预设参数的检测光；在第二状态下，被测件接收到具有不同于第一预设参数的第二预设参数的检测光。通过配置的预扫描组件，可优先于检测组件对被测件进行扫描，以探测和收集被测件上预定特征的相关信息；当检测组件扫描到预定特征的位置时，通过调节被测件接收到的检测光，能够使得检测光低功率扫过或精确略过预定特征，从而有效避免因预定特征炸裂而污染被测件，为提高检测精度提供保障。

技术领域

本实用新型涉及检测技术领域，具体涉及一种检测设备。

背景技术

在半导体光学检测设备领域，随着检测设备灵敏度的提升与吞吐量的提高，采用更大功率、更短波长的深紫外工业级激光器作为检测光源，已经成为半导体光学检测设备的首选。

以晶圆缺陷检测设备为例，激光器出射的光束照明在晶圆缺陷上会产生散射信号，借助预先设定在预设角度位置的探测器接收散射信号，通过对信号的处理即可完成晶圆缺陷的检测。然而，由于激光束的波长短、能量高、功率大，在激光束照射在晶圆上后，有可能会将晶圆上的某些特殊缺陷（例如疏松的大尺寸有机物颗粒缺陷）炸开，从而对晶圆造成污染，影响检测精度。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种检测设备，能够避免发生晶圆污染等问题。

一种实施例中提供一种检测设备，所述检测设备被配置成可控地在第一状态与第二状态之间切换，所述检测设备包括：

预扫描组件，用于向被测件出射探测光，以获取被测件的预定特征的信息；以及

检测组件，用于向被测件出射检测光，以获取被测件的检测信息；所述检测组件与预扫描组件配合设置，且所述预扫描组件被配置成优先于检测组件扫描被测件，以在所述检测组件扫描到预定特征的位置时，所述检测设备自第一状态切换至第二状态；

在所述第一状态下，所述检测设备使被测件接收到具有第一预设参数的检测光；在所述第二状态下，所述检测设备使被测件接收到具有第二预设参数的检测光；其中，所述第一预设参数不同于第二预设参数。

一个实施例中，所述预扫描组件包括预扫描光源装置和第一探测通道，所述预扫描光源装置用于向被测件出射可见光波长的探测光；所述第一探测通道与预扫描光源装置配合设置，用于探测所述探测光在被测件上形成的第一光斑，以获取预定特征的信息；

所述检测组件包括检测光源装置和第二探测通道，所述检测光源装置用于向被测件出射紫外光波长的检测光；所述第二探测通道与检测光源装置配合设置，用于探测所述检测光在被测件上形成的第二光斑，以获取被测件的检测信息。

一个实施例中，所述预扫描光源装置被配置成产生线光束形式的探测光，以使得形成于被测件上的所述第一光斑呈线光斑；所述检测光源装置被配置成产生线光束形式的检测光，以使得形成于被测件上的所述第二光斑呈线光斑；其中，当所述预扫描组件与检测组件同时扫描被测件时，所述第一光斑和第二光斑于被测件上平行分布。

一个实施例中，所述预扫描光源装置包括光源件、光路转向件和光束整形件；其中，所述光源件被配置成产生点光束形式的探测光；所述光路转向件设置于光源件的光出射侧，用于将接收到的探测光沿预设路径输出至所述光束整形件；所述光束整形件与第一探测通道配合设置，用于将接收的探测光整形为线光束输出至被测件。

一个实施例中，还包括控制装置，所述预扫描组件和检测组件分别与控制装置信号连接，当所述检测组件扫描到预定特征的位置时，所述控制装置能够关闭检测光源装置，或控制检测光源装置调节检测光的参数，从而使得所述检测设备自第一状态切换至第二状态。