[实用新型]防干扰保护装置及PVD设备有效

专利信息
申请号: 202222984569.9 申请日: 2022-11-08
公开(公告)号: CN218932290U 公开(公告)日: 2023-04-28
发明(设计)人: 胡德锴;张会周 申请(专利权)人: 粤芯半导体技术股份有限公司
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54;G01N33/00
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 张子飞
地址: 510000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 干扰 保护装置 pvd 设备
【说明书】:

实用新型提供一种防干扰保护装置及PVD设备,涉及集成电路制造技术领域。所述防干扰保护装置包括屏蔽罩和地线,所述屏蔽罩用于罩设气体测量仪器,所述屏蔽罩与所述气体测量仪器之间留有间隙,所述屏蔽罩通过地线与机台壳体连接。本实用新型可降低PVD设备中电源开关线所产生的磁场以及靶材中磁铁所产生的磁场对气体测量仪器的干扰,从而避免对气体测量仪器的电流电压产生影响,保证PVD制程的正常运行。

技术领域

本实用新型涉及集成电路制造技术领域,特别涉及一种防干扰保护装置及PVD设备。

背景技术

物理气相沉积(PVD)是指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由溅射阴极或者蒸镀源转移到基材(如晶圆)表面上的过程,其作用是可以使某些有特殊性能(如强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能。

目前,在PVD设备中,chamber gauge(气体测量仪器)外部无任何保护装置,气体测量仪器容易受到电源开关线所产生的磁场以及靶材中磁铁所产生的磁场的干扰,从而对气体测量仪器的电流电压产生影响,使得气体测量仪器的读数不精准,影响PVD制程的正常运行,甚至误判晶圆生产的正常情况,造成产品良率降低,甚至导致晶圆报废。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种防干扰保护装置及PVD设备,以解决现有PVD设备中气体测量仪器受到磁场干扰,无法正常运行的问题。

为解决上述技术问题,本实用新型提供了一种防干扰保护装置,其包括屏蔽罩和地线,所述屏蔽罩用于罩设气体测量仪器;所述屏蔽罩与所述气体测量仪器之间留有间隙,所述屏蔽罩通过所述地线与机台壳体连接。

可选的,所述防干扰保护装置还包括连接件,所述连接件将所述屏蔽罩与所述气体测量仪器可拆卸连接。

可选的,所述连接件包括至少两个螺栓,至少两个所述螺栓沿所述屏蔽罩的周向间隔设置,且所述螺栓穿过所述屏蔽罩与所述气体测量仪器螺纹连接。

可选的,至少两个所述螺栓沿所述屏蔽罩的中轴线对称设置。

可选的,所述屏蔽罩与所述气体测量仪器之间还填充有磁性绝缘层,且所述磁性绝缘层为铝材层。

可选的,所述屏蔽罩上开设有供所述气体测量仪器中管路穿过的通孔。

可选的,所述屏蔽罩包括铝制屏蔽罩、铜制屏蔽罩、镁制屏蔽罩和锌制屏蔽罩中的一种。

可选的,所述屏蔽罩呈中空圆柱体设置。

可选的,所述屏蔽罩的直径在50mm~100mm之间,所述屏蔽罩的高度在100mm~300mm之间,所述屏蔽罩的壁厚在1~10mm之间。

本实用新型还提供一种PVD设备,包括机台壳体、供气装置、气体管路、气体测量仪器和如上所述的防干扰保护装置;其中,所述气体测量仪器通过所述气体管路与所述供气装置连通。

在本实用新型提供的防干扰保护装置中,在气体测量仪器的外侧罩设一个屏蔽罩,通过屏蔽罩(例如是铝制屏蔽罩)可屏蔽磁场的特性,降低PVD设备中电源开关线所产生的磁场以及靶材中磁铁所产生的磁场对气体测量仪器的干扰,从而避免对气体测量仪器的电流电压产生影响,保证PVD制程的正常运行。

附图说明

构成本申请的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

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