[实用新型]烤盘及煎烤机

权利要求书

1.一种烤盘，其特征在于，包括烤盘本体(10)，所述烤盘本体(10)上设有烹饪槽(20)及水槽(30)，所述水槽(30)的总容积为V，V为10mL～80mL，所述烹饪槽(20)和所述水槽(30)由所述烤盘本体(10)一体冲压成型，所述烹饪槽(20)和所述水槽(30)之间设有挡筋(40)，且所述挡筋(40)也由所述烤盘本体(10)一体冲压成型。

2.根据权利要求1所述的烤盘，其特征在于，所述水槽(30)的槽底低于所述烹饪槽(20)的槽底。

3.根据权利要求2所述的烤盘，其特征在于，所述挡筋(40)的顶面到所述水槽(30)的底面之间的垂直距离为A，A为5mm～25mm。

4.根据权利要求2所述的烤盘，其特征在于，所述挡筋(40)的顶面到所述烹饪槽(20)的底面之间的垂直距离为B，B为1mm～10mm。

5.根据权利要求1所述的烤盘，其特征在于，所述挡筋(40)的宽度为C，C为2mm～15mm。

6.根据权利要求1所述的烤盘，其特征在于，所述水槽(30)的数量为一个，沿所述水槽(30)的槽口向所述水槽(30)的槽底的方向，所述水槽(30)呈收缩状，所述水槽(30)的槽口的横截面积为S1，S1为1000mm²～8000mm²，所述水槽(30)的槽底的横截面积为S2，S2为500mm²～4000mm²。

7.根据权利要求1所述的烤盘，其特征在于，所述水槽(30)的数量为两个，两个所述水槽(30)间隔设置于所述烤盘本体(10)的一侧，且两个所述水槽(30)之间的间距为D，D为15mm～55mm。

8.根据权利要求1所述的烤盘，其特征在于，所述水槽(30)的数量为两个，单个所述水槽(30)的容积为V’，V’为5mL～40mL。

9.根据权利要求8所述的烤盘，其特征在于，沿所述水槽(30)的槽口向所述水槽(30)的槽底的方向，所述水槽(30)呈收缩状，单个所述水槽(30)的槽口的横截面积为S1’，S1’为500mm²～4000mm²，单个所述水槽(30)的槽底的横截面积为S2’，S2’为400mm²～4000mm²。

10.一种煎烤机，其特征在于，包括底座(200)、加热组件(300)以及如权利要求1-9任一所述的烤盘(100)，所述加热组件(300)设有所述底座(200)内侧，所述烤盘(100)设置于所述加热组件(300)上。

11.根据权利要求10所述的煎烤机，其特征在于，所述加热组件(300)包括发热管(310)以及发热盘(320)，所述发热管(310)设置于所述发热盘(320)下方，用于加热所述发热盘(320)，所述烤盘(100)设置于所述发热盘(320)上。

12.根据权利要求11所述的煎烤机，其特征在于，所述水槽(30)设置于所述烹饪槽(20)一侧，所述发热盘(320)的中心位于所述烤盘(100)的中心偏向所述水槽(30)的一侧。

13.根据权利要求12所述的煎烤机，其特征在于，所述发热盘(320)的中心与所述烤盘(100)的中心之间的水平距离为E，E为5mm～30mm。

14.根据权利要求11所述的煎烤机，其特征在于，所述发热盘(320)的边缘朝向远离所述发热盘(320)中心的方向水平延伸有传热凸台(321)，所述传热凸台(321)位于所述水槽(30)下方。