[实用新型]一种清洗基站

权利要求书

1.一种清洗基站，其特征在于，包括：

清洗盘，所述清洗盘上设有清洗槽；所述清洗槽用于容纳拖擦件；

清洗凸肋，设置于所述清洗槽内，并连接于所述清洗槽；所述清洗凸肋的表面设有清洁部，所述清洁部用于清洁处于所述清洗槽的所述拖擦件；

在所述拖擦件作用于所述清洁部时，所述清洁部在所述拖擦件的作用力下相对所述清洗槽发生位移。

2.根据权利要求1所述的清洗基站，其特征在于，所述清洗凸肋通过活动件活动连接于所述清洗槽，所述活动件的两端分别连接所述清洗凸肋和所述清洗槽。

3.根据权利要求2所述的清洗基站，其特征在于，所述活动件为弹性件和/或伸缩连接件。

4.根据权利要求2所述的清洗基站，其特征在于，所述清洗凸肋还通过转动连接件与所述清洗槽转动连接，并通过所述转动连接件与所述活动件摆动地连接于所述清洗槽，以在所述拖擦件的作用力下相对于所述清洗槽摆动。

5.根据权利要求4所述的清洗基站，其特征在于，所述转动连接件位于所述清洗凸肋的一端部，所述清洗凸肋的另一端通过所述活动件实现摆动。

6.根据权利要求2所述的清洗基站，其特征在于，所述活动件具有至少两个，至少两个所述活动件沿所述清洗凸肋的长度方向间隔布置。

7.根据权利要求1-6中任一所述的清洗基站，其特征在于，所述清洗凸肋还包括底座部，所述底座部安装于所述清洗槽，所述清洁部设于所述底座部的面向所述拖擦件的表面上，并在所述拖擦件的作用力下相对于所述底座部活动。

8.根据权利要求7所述的清洗基站，其特征在于，所述清洁部为软性接触部，并在所述拖擦件的作用力下发生形变以贴合所述拖擦件。

9.根据权利要求8所述的清洗基站，其特征在于，所述底座部为硬性底座部，所述底座部与所述清洗槽一体成型。

10.根据权利要求7所述的清洗基站，其特征在于，所述清洁部面向所述拖擦件的表面为粗糙面。