[实用新型]一种玻璃窑炉的铺面结构及玻璃窑炉

权利要求书

1.一种玻璃窑炉的铺面结构，其特征在于，用于铺设至玻璃窑炉的池底，包括：

铺面层，设于玻璃窑炉的池底，且所述铺面层的周侧与玻璃窑炉的池壁砖之间形成膨胀边缝；

压边缝层，沿所述膨胀边缝铺设，所述压边缝层的底面盖设于所述铺面层，所述压边缝层的一侧贴合至玻璃窑炉的池壁砖，且所述压边缝层预留有至少一个集中胀缝膨胀空间；

至少一个集中胀缝组件，一一对应设置于所述集中胀缝膨胀空间，且所述集中胀缝组件的底面盖设于所述铺面层，所述集中胀缝组件的一侧贴合至玻璃窑炉的池壁砖；

其中，所述集中胀缝组件包括沿铺设方向间隔设置的第一集中胀缝砖和第二集中胀缝砖；所述第一集中胀缝砖和所述第二集中胀缝砖相对的面上分别设置有交错的第一凸起和第二凸起；所述第一凸起的侧面贴合至所述第二凸起形成一密封面，所述密封面平行于铺设方向且位于所述铺面层的上方；所述第一凸起的顶面与所述第二集中胀缝砖之间配合形成一位于所述铺面层上方的第一集中胀缝，所述第二凸起的顶面与所述第一集中胀缝砖之间配合形成一位于膨胀边缝上方的第二集中胀缝；

若干顶压缝砖，与所述集中胀缝组件一一对应，且所述顶压缝砖的底面盖设于对应的所述第二集中胀缝，所述顶压缝砖的一侧贴合至玻璃窑炉的池壁砖。

2.如权利要求1所述的玻璃窑炉的铺面结构，其特征在于，所述第一凸起和所述第二凸起分别为所述第一集中胀缝砖和所述第二集中胀缝砖的矩形延伸块。

3.如权利要求1所述的玻璃窑炉的铺面结构，其特征在于，所述第一集中胀缝砖和所述第二集中胀缝砖的高度为75mm至100mm。

4.如权利要求1所述的玻璃窑炉的铺面结构，其特征在于，所述压边缝层在所述集中胀缝膨胀空间内的膨胀量为A，所述第一集中胀缝砖、所述第二集中胀缝砖在铺设方向上的膨胀量之和为B；所述第一集中胀缝和所述第二集中胀缝的宽度大于A+B。

5.如权利要求1所述的玻璃窑炉的铺面结构，其特征在于，所述第一集中胀缝砖和所述第二集中胀缝砖均设有一凹陷区域，两个所述凹陷区域配合形成一凹陷槽；所述顶压缝砖盖设于所述凹陷槽内。

6.如权利要求5所述的玻璃窑炉的铺面结构，其特征在于，所述凹陷槽的深度为10mm至20mm。

7.如权利要求1所述的玻璃窑炉的铺面结构，其特征在于，所述第一集中胀缝砖和所述第二集中胀缝砖的宽度相同；所述密封面位于所述第一集中胀缝砖和所述第二集中胀缝砖的宽度方向的中点处，且所述膨胀边缝的宽度小于所述第一集中胀缝砖和所述第二集中胀缝砖的宽度的二分之一。

8.如权利要求1所述的玻璃窑炉的铺面结构，其特征在于，所述顶压缝砖的高度为50mm至75mm。

9.一种玻璃窑炉，其特征在于，包括如权利要求1至8任意一项所述的玻璃窑炉的铺面结构。