[实用新型]一种用于等离子液体纳米抛光的补液装置

权利要求书

1.一种用于等离子液体纳米抛光的补液装置，其特征在于，该补液装置包括补液槽(8)、补液管(7)和用于监测抛光液水槽(1)内液面的第一液位传感器(4)，补液槽(8)用于存储抛光液，补液管(7)的两端分别与补液槽(8)和抛光液水槽(1)固定连接，补液管(7)连接有驱动件(3)，驱动件(3)用于将补液槽(8)内的抛光液输送至抛光液水槽(1)，第一液位传感器(4)与抛光液水槽(1)固定连接，第一液位传感器(4)与控制器(10)连接，控制器(10)与驱动件(3)连接。

2.根据权利要求1所述的用于等离子液体纳米抛光的补液装置，其特征在于，所述抛光液水槽(1)设置有防迸溅罩(5)，防迸溅罩(5)固定在抛光液水槽(1)的上方。

3.根据权利要求2所述的用于等离子液体纳米抛光的补液装置，其特征在于，所述抛光液水槽(1)固定在补液槽(8)的上方，防迸溅罩(5)的罩设面积大于抛光液水槽(1)的槽口面积，且防迸溅罩(5)的罩设面积小于补液槽(8)的槽口面积。

4.根据权利要求3所述的用于等离子液体纳米抛光的补液装置，其特征在于，所述防迸溅罩(5)包括遮挡板(51)和引流板(52)，遮挡板(51)设置在抛光液水槽(1)的上方，遮挡板(51)完全遮挡抛光液水槽(1)的槽口，引流板(52)设置有多个，多个引流板(52)环遮挡板(51)设置，每个引流板(52)均与遮挡板(51)固定连接。

5.根据权利要求1所述的用于等离子液体纳米抛光的补液装置，其特征在于，所述补液槽(8)内设置有第二液位传感器(9)，第二液位传感器(9)与补液槽(8)的侧壁固定连接，第二液位传感器(9)与控制器(10)连接。

6.根据权利要求5所述的用于等离子液体纳米抛光的补液装置，其特征在于，所述第二液位传感器(9)靠近补液槽(8)的槽底。

7.根据权利要求1所述的用于等离子液体纳米抛光的补液装置，其特征在于，所述补液槽(8)内设置有盐度检测传感器(20)，盐度检测传感器(20)与补液槽(8)的侧壁固定连接，盐度检测传感器(20)与控制器(10)连接。

8.根据权利要求1所述的用于等离子液体纳米抛光的补液装置，其特征在于，所述抛光液水槽(1)的抛光液内浸泡有工件(2)，工件(2)连接有电源(6)，电源(6)的正极与工件(2)连接，电源(6)的负极与抛光液水槽(1)连接。