[实用新型]一种人工灌釉设备的供釉装置有效

专利信息
申请号: 202221117533.4 申请日: 2022-05-11
公开(公告)号: CN217573375U 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 王彦庆;杜伟建;孙岩;王辉;边久贵;吴军;宋金超;李金石;张英林;董坤;刘志强 申请(专利权)人: 惠达卫浴股份有限公司
主分类号: B28B11/04 分类号: B28B11/04;B28B17/00
代理公司: 天津展誉专利代理有限公司 12221 代理人: 郑晓晨
地址: 063000 河北*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 人工 设备 装置
【说明书】:

本实用新型一种人工灌釉设备的供釉装置,属于坐便器制造领域,包括相连的高位釉浆锥桶和低位釉浆收集锥斗,高位釉浆锥桶顶部设置有锥桶进浆口、底部设置有锥桶出浆口,锥桶进浆口与高位釉浆锥桶侧面相切并与水平面呈5°~10°,低位釉浆收集锥斗顶部三面布设有锥斗防溢溅围板、底部设置有锥斗出浆口。釉浆通过所述低位釉浆收集锥斗将灌釉后剩余釉浆重新收集,经气动隔膜泵将釉浆打至高位釉浆锥桶通过锥桶进浆口切向下旋进锥桶中,冲刷桶壁的同时带动釉浆在桶内旋转防止釉浆沉淀产生浓度变化,循环使用不浪费釉浆的同时保证釉浆浓度处于恒定值,省去生产结束后工人长时间清洁供釉装置,提高生产效率的同时使连续生产的产品质量得到了保证。

技术领域

本实用新型属于坐便器制造领域,尤其是涉及一种人工灌釉设备的供釉装置。

背景技术

目前国内卫生瓷生产中坐便器弯管灌釉是一项重要生产环节。卫生瓷的质量关键在于釉面,这就需要在人工灌釉操作中严格控制釉浆的浓度。浓度过低,则在坯体上形成的釉层过薄,釉浆粘附力过小,釉层与坯体的附着不牢固,造成烧成制品釉面上的痕迹粗糙,产品平整度不够,釉面光泽不良,出现斑点、棕眼、针孔等。但如釉浆的浓度太大,施釉后釉面较易开裂,烧成后釉面容易发生龟裂、堆釉、釉层翘起与坯体脱离等现象。

目前国内卫生瓷领域内人工灌釉的供釉装置普遍采用硬塑板或木板制作,此种材质虽不受釉浆腐蚀但同时不易弯曲制作成其它形状,装置中的死角及釉浆流速缓慢区域极其容易导致釉浆的析出、沉淀,直接影响釉浆浓度,造成釉浆浪费。

为保证产品质量,控制釉浆浓度在合理范围内,操作工人往往需要频繁测量、调整釉浆浓度,影响工作效率的同时增加了劳动成本。

发明内容

本实用新型要解决的问题是提供一种实现了釉浆在供釉装置中无沉淀,浓度保持稳定在合理范围内,使连续生产的产品质量得到保证、增加工作效率、减小岗位劳动强度的人工灌釉设备的供釉装置。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案是:一种人工灌釉设备的供釉装置,包括相连的高位釉浆锥桶和低位釉浆收集锥斗,所述高位釉浆锥桶顶部设置有锥桶进浆口、底部设置有锥桶出浆口,所述锥桶进浆口与高位釉浆锥桶侧面相切并与水平面呈5°~10°,所述低位釉浆收集锥斗顶部三面布设有锥斗防溢溅围板、底部设置有锥斗出浆口。

优选地,所述高位釉浆锥桶和低位釉浆收集锥斗之间通过隔膜泵和管道对应连接。

优选地,所述高位釉浆锥桶通过耳式支座安装于锥桶支架上。

优选地,所述低位釉浆收集锥斗整体与灌釉翻转支架贴合密封,其底部通过锥斗支架支撑。

优选地,所述高位釉浆锥桶下端椎体锥度≤1:0.5。

优选地,所述低位釉浆收集锥斗底部为四棱锥形,所述锥斗出浆口朝向斜下方与水平面夹角<90°。

釉浆通过所述低位釉浆收集锥斗将灌釉后剩余釉浆重新收集,经气动隔膜泵将釉浆打至高位釉浆锥桶通过锥桶进浆口切向下旋进锥桶中,冲刷桶壁的同时带动釉浆在桶内旋转防止釉浆沉淀产生浓度变化,循环使用不浪费釉浆的同时保证釉浆浓度处于恒定值。

由于采用上述技术方案,本实用新型的有益效果为:大大减小了岗位的劳动强度,省去工人频繁测量、调整釉浆浓度的步骤,省去生产结束后工人长时间清洁供釉装置,达到极简清洁,提高生产效率的同时使连续生产的产品质量得到了保证。

附图说明

下面通过参考附图并结合实例具体地描述本实用新型,本实用新型的优点和实现方式将会更加明显,其中附图所示内容仅用于对本实用新型的解释说明,而不构成对本实用新型的任何意义上的限制,在附图中:

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型低位釉浆收集锥斗的结构示意图

图中:

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