[实用新型]一种人工灌釉设备的供釉装置有效
申请号: | 202221117533.4 | 申请日: | 2022-05-11 |
公开(公告)号: | CN217573375U | 公开(公告)日: | 2022-10-14 |
发明(设计)人: | 王彦庆;杜伟建;孙岩;王辉;边久贵;吴军;宋金超;李金石;张英林;董坤;刘志强 | 申请(专利权)人: | 惠达卫浴股份有限公司 |
主分类号: | B28B11/04 | 分类号: | B28B11/04;B28B17/00 |
代理公司: | 天津展誉专利代理有限公司 12221 | 代理人: | 郑晓晨 |
地址: | 063000 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 人工 设备 装置 | ||
1.一种人工灌釉设备的供釉装置,其特征在于:包括相连的高位釉浆锥桶和低位釉浆收集锥斗,所述高位釉浆锥桶顶部设置有锥桶进浆口、底部设置有锥桶出浆口,所述锥桶进浆口与高位釉浆锥桶侧面相切并倾斜设置,所述低位釉浆收集锥斗顶部三面布设有锥斗防溢溅围板、底部设置有锥斗出浆口。
2.根据权利要求1所述的人工灌釉设备的供釉装置,其特征在于:所述高位釉浆锥桶和低位釉浆收集锥斗之间通过隔膜泵和管道对应连接。
3.根据权利要求1所述的人工灌釉设备的供釉装置,其特征在于:所述高位釉浆锥桶通过耳式支座安装于锥桶支架上。
4.根据权利要求1所述的人工灌釉设备的供釉装置,其特征在于:所述低位釉浆收集锥斗整体与灌釉翻转支架贴合密封,其底部通过锥斗支架支撑。
5.根据权利要求1所述的人工灌釉设备的供釉装置,其特征在于:所述锥桶进浆口与高位釉浆锥桶侧面相切并与水平面呈5°~10°。
6.根据权利要求1所述的人工灌釉设备的供釉装置,其特征在于:所述高位釉浆锥桶下端锥体锥度≤1:0.5。
7.根据权利要求1所述的人工灌釉设备的供釉装置,其特征在于:所述低位釉浆收集锥斗底部为四棱锥形,所述锥斗出浆口朝向斜下方与水平面夹角<90°。
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