[实用新型]一种晶圆清洗抛光装置

权利要求书

1.一种晶圆清洗抛光装置，包括底座(13)，其特征在于：所述底座(13)的顶端的两侧均安装有暂存箱(9)，且暂存箱(9)的内部均安装有滤板(8)，所述底座(13)的顶端安装有两个第一气动推杆(10)，且第一气动推杆(10)的顶端均安装有活动箱(24)，且活动箱(24)的内壁安装有多个喷头(22)，所述活动箱(24)底端的外侧均安装有第二伸缩管(14)，且第二伸缩管(14)的一端均延伸至暂存箱(9)的内部，所述活动箱(24)的底端中间位置处均安装有第一驱动电机(11)，且第一驱动电机(11)的输出端延伸至活动箱(24)的内部安装有放置盘(12)，所述底座(13)顶端的两侧均安装有立板(6)，且立板(6)的顶端安装有顶板(2)，所述顶板(2)的底端安装有固定盖板(21)，且固定盖板(21)内部的顶端安装有安装筒(3)，所述安装筒(3)的内部设置有移动板(19)，且移动板(19)的底端安装有第二驱动电机(18)，所述第二驱动电机(18)的输出端安装有抛光盘(5)，所述顶板(2)的顶端中间位置处安装有第二气动推杆(20)，且第二气动推杆(20)的输出端与移动板(19)的顶端相连接，所述顶板(2)顶端的一侧安装有水箱(1)，且顶板(2)顶端的另一侧安装有研磨浆箱(17)，所述顶板(2)和研磨浆箱(17)的底端均安装有多个第一伸缩管(4)，且第一伸缩管(4)的底端均与喷头(22)的顶端相连接。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗抛光装置，其特征在于：所述固定盖板(21)和活动箱(24)的形状均为圆柱形，且固定盖板(21)和活动箱(24)的内径和外径分别相同。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗抛光装置，其特征在于：所述放置盘(12)的顶端开设有多个凹槽(23)，且放置盘(12)和抛光盘(5)的中心处在同一竖直线上。

4.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗抛光装置，其特征在于：所述喷头(22)共设置有六个，且喷头(22)在活动箱(24)的内壁呈等间距分布。

5.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗抛光装置，其特征在于：所述活动箱(24)的底端呈倾斜设置，且活动箱(24)底端靠近放置盘(12)一侧的高度高于其另一侧的高度。

6.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗抛光装置，其特征在于：所述安装筒(3)的内壁开设有多个导槽，所述移动板(19)的外壁安装有多个导块，且移动板(19)通过导块和导槽之间的滑动配合与安装筒(3)之间构成滑动连接。

7.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗抛光装置，其特征在于：所述立板(6)的一侧均设置有泵机(15)，且泵机(15)的输入端均安装有抽水管(7)，所述抽水管(7)的一端均延伸至暂存箱(9)的内部，所述泵机(15)的输出端均安装有回水管(16)，且回水管(16)的一端均延伸至水箱(1)的内部。

8.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗抛光装置，其特征在于：所述滤板(8)的一端延伸至暂存箱(9)的一侧，且滤板(8)与暂存箱(9)之间的连接方式为可拆卸连接。