[实用新型]用于极低发射度同步辐射光源的插入装置及极低发射度同步辐射光源

说明书

本实用新型实施例提供一种用于极低发射度同步辐射光源的插入装置及极低发射度同步辐射光源，用以解决现有技术中的类椭圆形状管腔的插入装置在被电子、离子和光子轰击时，光束的光斑较大,无法将光束发射度控制在0.01纳米·弧度以下的技术问题。插入装置的金属管体具有横截面呈圆形的管腔，金属管体的管腔内壁设置有吸气剂薄膜涂层；管腔的直径不大于10毫米。通过采用横截面呈圆形的管腔结构及在管体的管腔内壁设置吸气剂薄膜涂层，以使真空状态下的管腔内具有均匀的高抽速和压强分布，吸收H₂、O₂、N₂、CO、CO₂和H₂O等活性气体，降低电子、离子和光子对管腔内壁的轰击效应，从而将光斑的抖动控制在纳米级别，实现将光束发射度控制在0.01纳米·弧度以下。

技术领域

本实用新型涉及同步辐射光源设备领域，尤其是一种用于极低发射度同步辐射光源的插入装置。

背景技术

同步辐射光源是指产生同步辐射的物理装置，它是一种利用相对论性电子(或正电子)在磁场中偏转时产生同步辐射的高性能新型强光源。在确保同步辐射光的位置和发射角具有高稳定性的情况下，如何提高同步辐射光的光束亮度是本领域的研究人员致力解决的技术问题。

为了解决上述技术问题，本领域的研究人员提出了将光束发射度控制在0.01纳米·弧度以下的技术方案，该技术方案对应的同步辐射光源被命名为极低发射度同步辐射光源。

然而，发明人在实现本实用新型实施例中的技术方案的过程中发现，现有的极低发射度同步辐射光源至少存在如下技术问题：

现有的极低发射度同步辐射光源，其水平设置的插入装置的管腔横截面为类椭圆形状，水平孔径≤51毫米，垂直孔径≤12毫米，在工作状态下，电子、离子和光子对管腔内壁进行轰击，引发放气及二次电子发射，导致光束的光斑较大，很难将光斑的抖动控制在纳米级别，也就无法将光束发射度控制在0.01纳米·弧度以下。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型实施例的目的在于提供一种用于极低发射度同步辐射光源的插入装置及极低发射度同步辐射光源，用以解决现有技术中的类椭圆形状管腔的插入装置在被电子、离子和光子轰击时，光束的光斑较大,无法将光束发射度控制在0.01纳米·弧度以下的缺陷。本实用新型实施例通过采用横截面呈圆形的管腔结构，以使真空状态下的管腔内具有均匀的高抽速和压强分布，在管体的管腔内壁设置吸气剂薄膜涂层，以在真空工作状态下吸收H₂、O₂、N₂、CO、CO₂和H₂O等活性气体，降低电子、离子和光子对管腔内壁的轰击效应，从而将光斑的抖动控制在纳米级别，实现将光束发射度控制在0.01纳米·弧度以下。

为了实现上述目的，本实用新型实施例中采用的技术方案如下：

第一方面，本实用新型实施例中提供一种用于极低发射度同步辐射光源的插入装置，所述插入装置的金属管体具有横截面呈圆形的管腔，所述金属管体的管腔内壁设置有吸气剂薄膜涂层；所述管腔的直径不大于10毫米。

可能的实施方式中，所述吸气剂薄膜涂层的厚度为0.5～5微米。

可能的实施方式中，所述吸气剂薄膜涂层为TiZrV涂层、ZrVFe涂层、Pd/Ti涂层中的一种。

可能的实施方式中，所述吸气剂薄膜涂层通过真空溅射镀膜工艺设置在所述金属管体的管腔内壁。

可能的实施方式中，所述金属管体为铜管或不锈钢管。

可能的实施方式中，所述金属管体的外径不大于12毫米。

第二方面，本实用新型实施例中提供一种极低发射度同步辐射光源，所述极低发射度同步辐射光源包括前述用于极低发射度同步辐射光源的插入装置。