[实用新型]真空设备有效
申请号: | 202221011232.3 | 申请日: | 2022-04-28 |
公开(公告)号: | CN217376428U | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
发明(设计)人: | 朴泰泳;姜锡宙;李俊熙 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | B65G47/91 | 分类号: | B65G47/91 |
代理公司: | 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641 | 代理人: | 朴英淑 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空设备 | ||
1.一种真空设备,其特征在于,包括:
下部腔体;
上部腔体,与所述下部腔体结合而形成真空状态;以及
基板移送部,至少一部分位于所述下部腔体内,并且将基板排出至所述下部腔体之外,
所述基板移送部包括:
旋转部,位于所述下部腔体的内部;
一对宽度调节部,与所述旋转部连接;以及
一对臂部,所述一对臂部中的一个臂部与所述一对宽度调节部中的一个宽度调节部连接,并且所述一对臂部中的另一个臂部与所述一对宽度调节部中的另一个宽度调节部连接。
2.根据权利要求1所述的真空设备,其特征在于,
所述基板移送部还包括:
真空维持部,与所述下部腔体的下部面密接;以及
多个吸附部,位于所述一对臂部的一侧末端,
所述旋转部与所述真空维持部连接,
所述旋转部使接合了位于所述下部腔体的下部材料和位于所述上部腔体的上部材料的所述基板旋转来将其排出至外部。
3.根据权利要求2所述的真空设备,其特征在于,
所述基板移送部还包括:
支承柱,位于所述真空维持部的内部;以及
第一主体,与所述支承柱的末端连接,并且支承所述旋转部。
4.根据权利要求3所述的真空设备,其特征在于,
所述基板移送部还包括:一对上下移动部,分别位于所述第一主体的两末端,从而使所述基板移送部上下移动。
5.根据权利要求4所述的真空设备,其特征在于,
所述一对臂部分别包括:
第一连接部,与所述一对宽度调节部中的相应的宽度调节部连接;以及
吸附部支承杆,与所述多个吸附部紧固连接而进行支承。
6.根据权利要求5所述的真空设备,其特征在于,
所述一对宽度调节部分别包括:
缸体,进行线性运动;以及
操作部,根据所述缸体的操作调节所述操作部的长度,并且所述操作部的末端具有以圆形结构扩展的宽度。
7.一种真空设备,其特征在于,包括:
下部腔体;
上部腔体,与所述下部腔体结合而形成真空状态;以及
基板移送部,至少一部分位于所述下部腔体内,并且将基板排出至所述下部腔体之外,
所述基板移送部包括:
旋转部,位于所述下部腔体的内部;以及
臂部,与所述旋转部连接,并且具有被弯曲的线性结构。
8.根据权利要求7所述的真空设备,其特征在于,
所述基板移送部还包括:
真空维持部,与所述下部腔体的下部面密接;
多个吸附部,位于所述臂部的一侧末端;以及
上下移动部,连接所述旋转部与所述臂部,并且使所述臂部进行上下线性运动,
所述旋转部与所述真空维持部连接。
9.一种真空设备,其特征在于,包括:
下部腔体;
上部腔体,与所述下部腔体结合而形成真空状态;以及
基板移送部,至少一部分位于所述下部腔体内,并且将基板排出至所述下部腔体之外,
所述基板移送部具有一对线性移送部,
所述一对线性移送部分别包括:
主体,位于所述下部腔体的内部;
第一宽度调节部和第二宽度调节部,与所述主体连接;以及
臂部,与所述第一宽度调节部的末端连接。
10.根据权利要求9所述的真空设备,其特征在于,
所述一对线性移送部分别还包括:
真空维持部,与所述下部腔体的下部面密接;
多个吸附部,位于所述臂部的一侧末端;以及
一对上下移动部,与所述主体连接,并且使所述主体上下移动,
所述主体与所述真空维持部连接。
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