[实用新型]一种硅晶圆研磨液供料系统

说明书

本实用新型公开了一种硅晶圆研磨液供料系统，涉及硅晶圆加工设备技术领域，包括原料支撑台和主体支撑台，原料支撑台上放置有第一原料桶和第二原料桶，主体支撑台上安装有搅拌桶和中转桶，搅拌桶的上端有两个原料泵，原料泵分别与第一原料桶和第二原料桶连通，搅拌桶的下方通过管道连接有中转泵，中转泵的出口端通过管道与中转桶的上方连通，中转桶的下端通过管道连接有输出泵，输出泵的出口管道上设有换热器。本实用新型可保证供液的过程中温度保持在合理的范围内，可周期性清洗，可精确快速的提供混合好的研磨液，整体设计紧凑集成度高，方便移动，混合效率高，温度保持和供料都非常精确，非常适合在本行业推广使用。

技术领域

本实用新型涉及硅晶圆加工设备技术领域，具体为一种硅晶圆研磨液供料系统。

背景技术

随着科技的进步，智能化的不断发展，越来越多的地方都需要使用芯片，芯片的每一步的工艺要求都是非常高的，其中的一个工艺步骤是需要将硅晶圆进行研磨，达到需要的标准等级，而CMP研磨液(Slurry)是平坦化工艺中的研磨材料和化学添加剂的混合物，Slurry主要是由研磨剂(Abrasive)、表面活性剂、PH缓冲胶、氧化剂和防腐剂等成分组成，其他添加剂一般根据所需研磨材料不同而所选取的不同类型的研磨液，由此可分为晶圆表面研磨液、金属铜研磨液和金属钨研磨液以及其他特殊研磨液。针对硅晶圆的研磨加工，我公司技术人员针对客户的需求设计了一种专用的研磨液供料系统，具有混合效率高，整体设计紧凑，制造成本低的特点，移动性强。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种硅晶圆研磨液供料系统，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种硅晶圆研磨液供料系统，包括原料支撑台和主体支撑台，所述原料支撑台上放置有第一原料桶和第二原料桶，所述主体支撑台上安装有搅拌桶(搅拌桶上方设有现成的搅拌器)和中转桶(只是将混合好的研磨液中转使用，可根据情况打入纯水混合比例然后在进行供液)，所述搅拌桶的上端通过管道连接有两个原料泵，两个原料泵的入口端分别通过管道与第一原料桶和第二原料桶连通，搅拌桶的下方通过管道连接有中转泵，所述中转泵的出口端通过管道与中转桶的上方连通，所述中转桶的下端通过管道连接有输出泵，所述输出泵的出口管道上设有换热器。

进一步的：所述换热器的换热端上下部分别连接在冷却液入口管路和冷却液出口管路上，并且换热器的出口端管道上依次安装有过滤器、流量计和电导率传感器，并且过滤器的左右两侧都安装有压力传感器。

进一步的：所述冷却液入口管路和冷却液出口管路之间设有氮气供气管路，所述氮气供气管路中部安装有氮气罐，所述氮气罐的出口处通过管道分别连接在第一原液桶、第二原液桶、搅拌桶和中转桶的曝气管，可轻度的调节混合液中的水分。

进一步的：所述冷却液入口管路的上端设有纯水管路，并且纯水管路分别通过管道与搅拌桶、中转桶和过滤器的上端连接，左侧末端的纯水管路设有手持清洗枪，纯水管路有两个作用一个是对搅拌的时候提供纯水还可以对后期的维护进行清洗操作。

进一步的：所述原料支撑台和主体支撑台的下方都安装有万向轮和可调支撑柱，所述第一原料桶和第二原料桶下方都设有电子秤，并且电子秤的上端均匀分布有阻尼式的导向轮，导向轮对放置原料桶更加方便。

优选的：所述原料泵和中转泵采用隔膜泵，所述输出泵采用磁力泵。

优选的：所述原料支撑台和主体支撑台上方都设有外壳框架，侧方都设有检修门，主体支撑台上的外壳框架的右侧设有工业控制电脑，所有的电气部件都与工业控制电脑电性联通。