[实用新型]一种硅晶圆研磨液供料系统

权利要求书

1.一种硅晶圆研磨液供料系统，其特征在于：包括原料支撑台(1)和主体支撑台(4)，所述原料支撑台(1)上放置有第一原料桶(2)和第二原料桶(3)，所述主体支撑台(4)上安装有搅拌桶(6)和中转桶(8)，所述搅拌桶(6)的上端通过管道连接有两个原料泵(5)，两个原料泵(5)的入口端分别通过管道与第一原料桶(2)和第二原料桶(3)连通，搅拌桶(6)的下方通过管道连接有中转泵(7)，所述中转泵(7)的出口端通过管道与中转桶(8)的上方连通，所述中转桶(8)的下端通过管道连接有输出泵(9)，所述输出泵(9)的出口管道上设有换热器(11)。

2.根据权利要求1所述的一种硅晶圆研磨液供料系统，其特征在于：所述换热器(11)的换热端上下部分别连接在冷却液入口管路(14)和冷却液出口管路(16)上，并且换热器(11)的出口端管道上依次安装有过滤器(12)、流量计(18)和电导率传感器(19)，并且过滤器(12)的左右两侧都安装有压力传感器。

3.根据权利要求2所述的一种硅晶圆研磨液供料系统，其特征在于：所述冷却液入口管路(14)和冷却液出口管路(16)之间设有氮气供气管路(15)，所述氮气供气管路(15)中部安装有氮气罐(10)，所述氮气罐(10)的出口处通过管道分别连接在第一原料桶(2)、第二原料桶(3)、搅拌桶(6)和中转桶(8)的曝气管上。

4.根据权利要求3所述的一种硅晶圆研磨液供料系统，其特征在于：所述冷却液入口管路(14)的上端设有纯水管路(13)，并且纯水管路(13)分别通过管道与搅拌桶(6)、中转桶(8)和过滤器(12)的上端连接，左侧末端的纯水管路(13)设有手持清洗枪。

5.根据权利要求1所述的一种硅晶圆研磨液供料系统，其特征在于：所述原料支撑台(1)和主体支撑台(4)的下方都安装有万向轮(20)和可调支撑柱(21)，所述第一原料桶(2)和第二原料桶(3)下方都设有电子秤(22)，并且电子秤(22)的上端均匀分布有阻尼式的导向轮(23)。

6.根据权利要求1所述的一种硅晶圆研磨液供料系统，其特征在于：所述原料泵(5)和中转泵(7)采用隔膜泵，所述输出泵(9)采用磁力泵。

7.根据权利要求1所述的一种硅晶圆研磨液供料系统，其特征在于：所述原料支撑台(1)和主体支撑台(4)上方都设有外壳框架(24)，侧方都设有检修门，主体支撑台(4)上的外壳框架(24)的右侧设有工业控制电脑(25)，所有的电气部件都与工业控制电脑(25)电性联通。