[实用新型]微弧氧化反应镀层厚度的试验装置有效

专利信息
申请号: 202220875487.8 申请日: 2022-04-13
公开(公告)号: CN217579108U 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 施康然 申请(专利权)人: 施康然
主分类号: C25D11/00 分类号: C25D11/00
代理公司: 深圳市洪荒之力专利代理有限公司 44541 代理人: 李青
地址: 321300 浙江省金*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 氧化 反应 镀层 厚度 试验装置
【说明书】:

实用新型涉及微弧氧化反应技术领域,具体而言涉及微弧氧化反应镀层厚度的试验装置,包括:电解池,内部设有两个隔板,将所述电解池分隔成三个相互独立且等容量的池体,定义为第一池体、第二池体和第三池体;每个池体均设有进水管和出水管,所述进水管和出水管连接到电解液循环系统,每个池体内设有板型的待镀工件和阴极板。本实用新型通过电解池分隔以及阴极板和板型待镀工件的设置,可在一次反应过程中得到电解液在不同角度流动时对于镀膜均匀性的影响,为电解液进水管如何布置才能达到均匀镀膜的目的提供参考基础,另外,也通过流速不同的对照,进一步的反映了电解液循环对镀膜均匀的影响程度。

技术领域

本实用新型涉及微弧氧化反应技术领域,具体而言涉及微弧氧化反应镀层厚度的试验装置。

背景技术

有色金属中的轻金属及其合金普遍具有密度低、比强度和比刚度高、导热导电性能好的特点,但由于其自身的耐磨、耐蚀性较差,在一些应用场合下,有必要对其表面进行微弧氧化处理。微弧氧化处理可使有色金属表面原位生长陶瓷层,使有色金属及其合金具有较好的耐磨损和耐腐蚀性能。

由于工件在反应时处于电解液中,反应时为了避免热量升高,通常使用冷却系统,即电解液循环系统对电解池进行降温,但是由于电解液的流动,很可能对镀层的厚度以及均匀性产生影响,因此亟需一种试验装置以供试验人员进行此方面的研究。

实用新型内容

针对现有技术中的缺陷与不足,本实用新型目的在于,设计一种简单的电解池,能反映出电解液流动对工件镀层厚度的影响。

本实用新型目的在于提供微弧氧化反应镀层厚度的试验装置,包括:

电解池,内部设有两个隔板,将所述电解池分隔成三个相互独立且等容量的池体,定义为第一池体、第二池体和第三池体;

每个池体均设有进水管和出水管,所述进水管和出水管连接到电解液循环系统,每个池体内设有板型的待镀工件和阴极板;

其中,第一池体的进水管高度高于第二池体的进水管高度高于第三池体的进水管高度,第一池体的出水管高度低于第二池体的出水管高度低于第三池体的出水管高度;每个所述待镀工件通过导电夹连接到电源阳极,每个阴极板连接到电源阴极,所述池体内设有浸没所述待镀工件的电解液,使所述电源接通时,待镀工件导电与电源构成回路,待镀工件与电解液发生微弧氧化反应,在待镀工件形成氧化陶瓷层。

优选的,每个所述池体内设有两块阴极板,其中一块位于待镀工件的一侧,另一块位于待镀工件的另一侧,且两块阴极板与待镀工件的间距相同。

优选的,每个所述池体内设有两块阴极板,其中一块位于待镀工件的一侧,另一块位于待镀工件的另一侧,且两块阴极板与待镀工件的间距不同。

优选的,定义所述池体的高度为H,第一池体的进水管高度为3/4H,第一池体的出水管高度为1/4H,第二池体的进水管高度为1/2H,第二池体的出水管高度为1/2H,第三池体的进水管高度为1/4H,第三池体的出水管高度为3/4H。

优选的,所述阴极板的最高点位于池体的3/4H处,最低点位于池体的1/4H处。

优选的,所述待镀工件的面积小于所述阴极板的面积。

优选的,所述电解池被设置成两个,其中一个电解池的每个进水管均分别通过第一循环泵连接到电解液循环系统,另一个电解池的每个进水管均分别通过第二循环泵连接到电解液循环系统。

优选的,所述第一循环泵的流量大于第二循环泵的流量。

与现有技术相比,本实用新型的优点在于:

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