[实用新型]用于分析基板处的样本的系统

说明书

一种用于分析基板处的样本的系统包括：光源，用于生成第一光；以及空间光调制器，用于从第一光形成第二光，其中，基板包括至少一个传感器，至少一个传感器用于检测基于第二光所发射的发射物，其中，在基板处，第二光形成基于至少一个传感器选择的形状，其中，第二光照射基板对应于该形状的区域。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2021年4月7日提交的题为“Adaptable Illumination Pattern forSample Analysis”的美国临时申请第63/200,982号的优先权，其内容通过引用并入本文。

技术领域

本申请涉及材料分析领域，具体涉及一种用于分析基板处的样本的系统。

背景技术

可以使用各种分析过程中的一种或多种来分析不同材料的样本。例如，测序(诸如高通量DNA测序)可以是基因组分析和其他遗传研究的基础。在这种和其他类型的分析中，可以通过照射样本并通过检测响应于照射而产生的发射物(例如，荧光)来确定样本的特性。

发明内容

在第一方面，一种用于分析基板处的样本的系统包括：光源，用于生成第一光；以及空间光调制器，用于从第一光形成第二光，其中，基板包括至少一个传感器，至少一个传感器用于检测基于第二光所发射的发射物，其中，在基板处，第二光形成基于至少一个传感器选择的形状，其中，第二光照射所述基板对应于该形状的区域。

实施方式可以包括以下特征中的任何一个或全部。空间光调制器是透射空间光调制器。空间光调制器是反射空间光调制器。空间光调制器是振幅空间光调制器。振幅空间光调制器包括可定向的反射镜，并且其中振幅空间光调制器至少定向反射镜中的第一反射镜以形成第二光。该系统还包括光束收集器，其中幅度空间光调制器至少定向反射镜中的第二反射镜以将第三光引导到光束收集器处，第三光是第一光的一部分。空间光调制器是相位空间光调制器。基板的区域包括多边形。第二光照射基板的多个区域，多个区域中的每一个是多边形区域。基板的区域包括椭圆。第二光照射基板的多个区域，多个区域中的每一个是椭圆形区域。第二光照射基板的多个区域。多个区域中的至少两个具有彼此不同的形状。传感器包括互补金属氧化物半导体设备。基板包括用于样本的流动池。基板包括由流动池覆盖的多个传感器。基板包括多个流动池。基板包括多个传感器，并且其中多个流动池中的每一个至少覆盖多个传感器中的对应一个。基板还包括与传感器相关的标识符，其中系统检测基板处的标识符，并且其中基于检测到的标识符来选择形状。标识符包括射频识别标签或视觉代码中的至少一个。发射物包括荧光。

在第二方面，一种方法包括：将第一光引导到被配置用于分析基板处的样本的系统中的空间光调制器处，其中基板包括至少一个传感器；控制空间光调制器以从第一光形成第二光；将第二光引导到基板处，其中第二光照射基板具有基于至少一个传感器选择的形状的区域；以及检测基于第二光所发射的发射物。

实施方式可以包括以下特征中的任何一个或全部。空间光调制器是幅度空间光调制器，其中幅度空间光调制器包括可定向的反射镜，并且其中控制幅度空间光调制器以形成第二光包括定向反射镜中的至少第一反射镜。第一反射镜被定向以呈现至少两种状态中的一种状态。该方法还包括将反射镜中的至少第二反射镜定向为将第三光引导到光束收集器处，第三光是第一光的一部分。空间光调制器是相位空间光调制器，并且其中控制相位空间光调制器以形成第二光包括改变第二光的强度分布或辐照度分布。改变强度分布或辐照度分布包括将第二光从照射基板的多个区域改变为照射少于多个区域的至少一个区域，并且其中在至少一个区域中亮度增加。第二光照射基板的多个区域。多个区域中的至少两个具有彼此不同的形状。基板还包括与传感器相关的标识符，方法还包括由系统检测基板处的标识符，并且其中基于所检测到的标识符来选择形状。检测标识符包括从射频识别标签接收信号或读取视觉代码中的至少一个。该方法还包括提供关于第二光的实时反馈；以及使用实时反馈来控制空间光调制器。提供实时反馈包括：创建第二光的成像图案的逆元；以及将逆元与在基板处获得的成像相乘。发射物包括荧光。

附图说明