[实用新型]用于分析基板处的样本的系统有效
| 申请号： | 202220795150.6 | 申请日： | 2022-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN219142656U | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | S.普林斯;K.福恩西里;冯文毅 | 申请（专利权）人： | 亿明达股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 胡琪 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 分析 基板处 样本 系统 | ||
1.一种用于分析基板处的样本的系统，其特征在于，所述系统包括：
光源，用于生成第一光；以及
空间光调制器，用于从所述第一光形成第二光，其中，所述基板包括至少一个传感器，所述至少一个传感器用于检测基于所述第二光所发射的发射物，其中，在所述基板处，所述第二光形成基于所述至少一个传感器选择的形状，其中，所述第二光照射所述基板对应于所述形状的区域。
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述空间光调制器是透射空间光调制器。
3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述空间光调制器是反射空间光调制器。
4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述空间光调制器是幅度空间光调制器。
5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述幅度空间光调制器包括可定向的反射镜，并且其中，所述幅度空间光调制器至少定向所述反射镜中的第一反射镜以形成所述第二光。
6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，还包括光束收集器，所述幅度空间光调制器至少定向所述反射镜中的第二反射镜以将第三光引导到所述光束收集器处，所述第三光是所述第一光的一部分。
7.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述空间光调制器是相位空间光调制器。
8.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述基板的区域包括多边形。
9.根据权利要求8所述的系统，其特征在于，所述第二光照射所述基板的多个区域，所述多个区域中的每一个是多边形区域。
10.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述基板的区域包括椭圆。
11.根据权利要求10所述的系统，其特征在于，所述第二光照射所述基板的多个区域，所述多个区域中的每一个是椭圆形区域。
12.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第二光照射所述基板的多个区域。
13.根据权利要求12所述的系统，其特征在于，所述多个区域中的至少两个具有彼此不同的形状。
14.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述传感器包括互补金属氧化物半导体设备。
15.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述基板包括用于所述样本的流动池。
16.根据权利要求15所述的系统，其特征在于，所述基板包括由所述流动池覆盖的多个传感器。
17.根据权利要求15所述的系统，其特征在于，所述基板包括多个流动池。
18.根据权利要求17所述的系统，其特征在于，所述基板包括多个传感器，并且其中，所述多个流动池中的每一个至少覆盖所述多个传感器中的对应的一个。
19.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述基板还包括指示所述传感器的设置和/或特性的标识符，其中，所述系统检测所述基板处的所述标识符，并且其中，基于所检测到的标识符来选择所述形状。
20.根据权利要求19所述的系统，其特征在于，所述标识符包括射频识别标签或视觉代码中的至少一个。
21.根据权利要求1-20中任一项所述的系统，其特征在于，所述发射物包括荧光。
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