[实用新型]一种黄光制程显影设备有效
申请号: | 202220633905.2 | 申请日: | 2022-03-23 |
公开(公告)号: | CN217305712U | 公开(公告)日: | 2022-08-26 |
发明(设计)人: | 肖啸;见强;周国鹏;张建权;郑志鹏;刘明淇;曾云飞 | 申请(专利权)人: | 湖北香城智能机电研究院有限公司 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 437035 湖北省咸宁市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 黄光制程 显影 设备 | ||
本实用新型涉及液晶面板制造技术领域,公开了一种黄光制程显影设备,包括多个相连的显影腔室,所述排气泵输出端均贯穿显影腔室的顶端内壁并固定连接有进气管,所述进气管与过度风室的连接处内径上均固定连接有第一挡风板,所述排气管与过度风室的连接处内径上均固定连接有第二挡风板,所述伸缩气缸驱动端均贯穿过度风室的顶端中部并固定连接在活塞的顶端中部。本实用新型中,通过伸缩气缸控制活塞上下运动,使得过度风室内的气流走向不停变换,并通过第一挡风板、第二挡风板、第三挡风板、第四挡风板和风门的相互配合,实现显影蒸汽的均匀排放,结构简单,设计巧妙,能够更好的满足使用者的使用需求,给使用者带来便利。
技术领域
本实用新型涉及液晶面板制造技术领域,尤其涉及一种黄光制程显影设备。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器制程中,阵列制程的黄光制程涂胶、曝光后进行的显影制程,多采用浸渍处理方式,当是正性光阻时,与曝光后的光阻进行反应使其溶解在显影液中,当是负性光阻时,与没有曝光的光阻进行反应使其溶解在显影液中,经过显影制程后,基板光阻可以定义出曝光膜的图形,对底层须定义的电路图形进行保护,再进行后续蚀刻与光阻剥离制程,最终在基板上制作出电路图形,但是在显影时可能因为厂务排气流量不稳定,导致显影腔体排气出现气流紊乱,将可能导致在显影液未涂布前,显影蒸汽提前轰击至基板的光阻上,由于阵列制成中光阻对显影液异常敏感,将导致基板上部分光阻提前显影,造成本该有光阻保护的区域裸露,出现光阻断线问题,进而后续蚀刻制程时,造成电路图形断路。
中国专利文献CN106842832B中公开了一种用于显影设备的排气箱及黄光制程显影设备通过设置排气箱,在排气箱上均匀设置排气孔并且排气孔朝上,使得显影腔室内的排气均匀,避免单一排气孔排气造成显影蒸汽流向紊乱现象,改善黄光制成后因显影排气设计不合理造成的光阻破孔及光阻线路断线现象。但是该结构在加工过程中产生的显影蒸汽量并非一成不变,该装置仅依靠均匀设置的排气孔进行排气难以保证排气过程的均匀性,需要进行改进。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种黄光制程显影设备。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:一种黄光制程显影设备,包括多个相连的显影腔室,所述显影腔室顶端内壁的一侧均固定连接有排气泵,所述排气泵输出端均贯穿显影腔室的顶端内壁并固定连接有进气管,所述显影腔室顶端均固定连接有过度风室,所述过度风室左端下侧均固定连接有排气管,所述进气管与过度风室的连接处内径上均固定连接有第一挡风板,所述排气管与过度风室的连接处内径上均固定连接有第二挡风板,所述过度风室顶端均固定连接有伸缩气缸,所述伸缩气缸驱动端均贯穿过度风室的顶端中部并固定连接在活塞的顶端中部。
作为上述技术方案的进一步描述,所述显影腔室内顶部均固定连接有传输装置。
作为上述技术方案的进一步描述,所述进气管的外径上均固定连接有调节阀。
作为上述技术方案的进一步描述,所述进气管的末端均固定连接在过度风室的右端上侧。
作为上述技术方案的进一步描述,所述过度风室的右端下侧均通过第一连通管连接在进气管的左端底部上,所述第一连通管与过度风室的连接处内径上均固定连接有第三挡风板。
作为上述技术方案的进一步描述,所述过度风室的左端上侧均通过第二连通管连接在排气管的右端上侧,所述第二连通管与过度风室的连接处内径上均固定连接有第四挡风板。
作为上述技术方案的进一步描述,所述第一挡风板、第二挡风板、第三挡风板和第四挡风板的左端顶部均转动连接有风门。
本实用新型具有如下有益效果:
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