[实用新型]一种镀铝膜用双面镀铝设备

权利要求书

1.一种镀铝膜用双面镀铝设备，包括真空箱(1)、设于所述真空箱(1)内的原料辊(11)、设于所述真空箱(1)内的收料辊(12)及用于镀铝的铝蒸舱(13)，其特征在于：所述真空箱内设有用于导向原料薄膜输送翻面的导向辊组、设于所述铝蒸舱上的第一冷却辊(21)、设于所述铝蒸舱(13)上的第二冷却辊(22)及用于使薄膜上形成氧化保护层的氧化装置，所述第一冷却辊(21)和第二冷却辊(22)的转向相反。

2.根据权利要求1所述的一种镀铝膜用双面镀铝设备，其特征在于：所述氧化装置包括用于压平薄膜的压平组件、用于喷射氧化气体的喷气组件及用于驱动所述压平组件与所述喷气组件运转的驱动组件，所述喷气组件包括设于所述真空箱内的喷气辊(41)、设于所述喷气辊上的喷气孔(42)及用于通入所述氧化气体的通气管。

3.根据权利要求2所述的一种镀铝膜用双面镀铝设备，其特征在于：所述喷气辊上设有倾斜环(44)，所述倾斜环由所述喷气辊(41)中心向两端排列设置有多个且所述倾斜环(44)的斜面朝向其靠近的一侧端面设置，所述斜面上开设有所述喷气孔(42)。

4.根据权利要求2所述的一种镀铝膜用双面镀铝设备，其特征在于：所述压平组件包括设于所述真空箱上的第一压平辊(31)和与所述第一压平辊(31)配合的第二压平辊(32)，所述第二压平辊上设有螺旋台(321)，所述螺旋台由第二压平辊(32)的中心向两端螺旋设置。

5.根据权利要求1所述的一种镀铝膜用双面镀铝设备，其特征在于：所述真空箱内还设有用于清洁薄膜表面的清洁组件，所述清洁组件包括设于所述真空箱内的清洁辊(51)、设于所述清洁辊上的清洁台(52)及用于驱动所述清洁辊转动的清洁电机(53)。

6.根据权利要求5所述的一种镀铝膜用双面镀铝设备，其特征在于：所述清洁台沿所述清洁辊的周向间隔设置且其上开设有储料槽(54)。

7.根据权利要求6所述的一种镀铝膜用双面镀铝设备，其特征在于：所述清洁台(52)上设有多个凸起(55)。