[实用新型]一种低残留清洗消毒液制备系统

权利要求书

1.一种低残留清洗消毒液制备系统，其特征在于，包括制备缸(1)、适温制备结构(2)和清理推导结构(3)，所述制备缸(1)的外侧固定连接有适温制备结构(2)，所述适温制备结构(2)的顶端固定连接有清理推导结构(3)，所述适温制备结构(2)用于对制备缸(1)内侧的消毒液进行适温制备，所述清理推导结构(3)用于对制备缸(1)内侧的残留进行刮除；

所述适温制备结构(2)包括导温模块和温控输出模块，所述导温模块的一端固定连接有温控输出模块。

2.根据权利要求1所述的一种低残留清洗消毒液制备系统，其特征在于，所述导温模块包括导温环(11)、导温块(15)和传递环(16)，所述导温环(11)内侧的一端固定连接有导温块(15)，所述导温块(15)的内侧固定有多个传递环(16)，所述传递环(16)的材质和导温块(15)的材质均为铜。

3.根据权利要求2所述的一种低残留清洗消毒液制备系统，其特征在于，所述温控输出模块包括控制面板(12)、半导体制冷板(13)和电热板(14)，所述导温环(11)一端的外侧固定连接有控制面板(12)，所述控制面板(12)的内侧搭载有半导体制冷板(13)和电热板(14)，所述半导体制冷板(13)的一端与电热板(14)的一端均通过导温胶与导温块(15)连接。

4.根据权利要求3所述的一种低残留清洗消毒液制备系统，其特征在于，所述清理推导结构(3)包括刮除动力模块和跟随去除模块，所述刮除动力模块的顶端固定连接有跟随去除模块。

5.根据权利要求4所述的一种低残留清洗消毒液制备系统，其特征在于，所述刮除动力模块包括定位配装块(4)、动导输出块(5)、电机(6)、齿轮轴(7)和齿条柱(8)，所述定位配装块(4)的底端与导温环(11)固定连接，所述定位配装块(4)的一端固定连接有动导输出块(5)，所述动导输出块(5)的一侧通过螺钉固定连接有电机(6)，所述电机(6)的输出端固定连接有齿轮轴(7)，所述定位配装块(4)的内侧滑动连接有齿条柱(8)，所述齿条柱(8)的一端与齿轮轴(7)啮合连接。

6.根据权利要求5所述的一种低残留清洗消毒液制备系统，其特征在于，所述跟随去除模块包括传递拉动杆(9)和清洁拉板(10)，所述齿条柱(8)的顶端固定连接有传递拉动杆(9)，所述传递拉动杆(9)的底端焊接有清洁拉板(10)，所述清洁拉板(10)与制备缸(1)内侧贴合。