[发明专利]光学气体传感器及制造方法在审
申请号: | 202211726259.5 | 申请日: | 2022-12-30 |
公开(公告)号: | CN116046710A | 公开(公告)日: | 2023-05-02 |
发明(设计)人: | 张宾;刘文超;朱瑞;程元红;陈新准 | 申请(专利权)人: | 广州奥松电子股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/3504 | 分类号: | G01N21/3504;G01N21/01;B81C1/00;B81B7/00 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 聂志伟 |
地址: | 510530 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 气体 传感器 制造 方法 | ||
本发明公开了一种光学气体传感器及制造方法,光学气体传感器包括光源组件、第一腔室、探测器组件、第二腔室和滤光片,光源组件包括发光层、第一电极结构和第一支撑层,发光层电连接第一电极结构,发光层与第一支撑层连接;第一支撑层与第一腔室连接,第一腔室具有刻蚀形成的内腔,第一腔室的侧壁设置有微型气孔通道;探测器组件包括接收层、第二电极结构和第二支撑层,接收层电连接第二电极结构,接收层与第二支撑层连接;第二支撑层与第二腔室连接,第二腔室具有刻蚀形成的内腔;滤光片位于第一腔室和第二腔室之间。采用MEMS工艺制成的光学传感器,光学传感器通过晶圆键合工艺封装,工艺简单。本发明可广泛应用于气体传感器技术领域。
技术领域
本发明涉及气体传感器技术领域,特别涉及一种光学气体传感器及制造方法。
背景技术
光学气体传感器是基于光学原理进行气体测量的传感器,主要包括光谱吸收型和荧光型气体传感器,光学气体传感器主要由光源、探测器、气室以及电路板组成。光谱吸收型气体传感器利用气体浓度与吸收强度关系(符合Lambert-Beer定律)来确定气体组分浓度,光谱范围包括紫外光、红外光以及可见光;荧光型气体传感器是气体分子在光照射后,能量增大,跃迁到激发态,当返回到基态时,会以荧光形式释放能量,通过检测荧光强度即可检测出气体的浓度。
现有的光学气体传感器在制备上比较复杂,一方面是因为模块制备比较复杂,除了光源、探测器外,还需要制备气室;另一方面是因为模块较多,不便于组装,致使批量生产效率低、成本高昂。
发明内容
为解决上述技术问题中的至少之一,本发明提供一种光学气体传感器及制造方法,所采用的技术方案如下。
本发明所提供的光学气体传感器包括光源组件、第一腔室、探测器组件、第二腔室和滤光片,所述光源组件包括发光层、第一电极结构和第一支撑层,所述发光层电连接所述第一电极结构,所述发光层与所述第一支撑层连接;所述第一支撑层与所述第一腔室连接,所述第一腔室具有刻蚀形成的内腔,所述第一腔室的侧壁设置有微型气孔通道;所述探测器组件包括接收层、第二电极结构和第二支撑层,所述接收层电连接所述第二电极结构,所述接收层与所述第二支撑层连接;所述第二支撑层与所述第二腔室连接,所述第二腔室具有刻蚀形成的内腔;所述滤光片位于所述第一腔室和所述第二腔室之间。
本发明的某些实施例中,所述光源组件包括第一屏蔽层,所述第一屏蔽层设置在所述光源组件的外侧。
本发明的某些实施例中,所述探测器组件包括第二屏蔽层,所述第二屏蔽层设置在所述探测器组件的外侧。
本发明的某些实施例中,所述光源组件发出红外光或紫外光或可见光。
本发明所提供的制造方法制备光学气体传感器,所述制造方法包括如下流程:
利用MEMS工艺分别制备所述光源组件和所述探测器组件,刻蚀形成所述第一腔室和所述第二腔室的内腔;
利用晶圆键合工艺将所述光源组件、所述第一腔室、所述滤光片、所述第二腔室和所述探测器组件连接;
利用激光切割工艺将键合后的所述发光层、所述接收层和所述滤光片切割成小颗芯片;
利用贴片工艺,将小颗芯片与外围电路板电连接。
本发明的某些实施例中,所述晶圆键合工艺采用晶圆直接键合工艺或晶圆阳极键合工艺。
本发明的某些实施例中,在所述晶圆键合工艺下,所述第一腔室和所述第二腔室直接贴合。
本发明所提供的光学气体传感器包括红外光源、红外探测器、第一气室、第二气室、滤光部件和电路板,所述红外光源设置有第一电极对;所述红外探测器设置有第二电极对;所述红外光源与所述第一气室连接,所述第一气室的侧壁设置有微通道气孔;所述红外探测器与所述第二气室连接;所述滤光部件位于所述第一气室和所述第二气室之间;所述第一电极对和所述第二电极对分别与所述电路板电连接。
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