[发明专利]基于设计版图的扫描电子显微镜图像轮廓提取方法、装置在审
申请号: | 202211659327.0 | 申请日: | 2022-12-22 |
公开(公告)号: | CN116129427A | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
发明(设计)人: | 请求不公布姓名 | 申请(专利权)人: | 东方晶源微电子科技(北京)有限公司 |
主分类号: | G06V20/69 | 分类号: | G06V20/69;G06V30/18;G06V30/19;G06V30/422 |
代理公司: | 北京汇知杰知识产权代理有限公司 11587 | 代理人: | 张奎;杨彦鸿 |
地址: | 100176 北京市大兴区北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 设计 版图 扫描 电子显微镜 图像 轮廓 提取 方法 装置 | ||
本申请提供了一种基于设计版图的扫描电子显微镜图像轮廓提取方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质,该方法包括:在采集到待检测区域的扫描电子显微镜图像的情况下,提取扫描电子显微镜图像的第一扫描电子显微镜图像轮廓;基于扫描电子显微镜图像对第一扫描电子显微镜图像轮廓进行调整,生成第二扫描电子显微镜图像轮廓;将第二扫描电子显微镜图像轮廓与设计版图对准,生成对准结果;基于对准结果对第二扫描电子显微镜图像轮廓进行调整,生成第三扫描电子显微镜图像轮廓;提取第三扫描电子显微镜图像轮廓的轮廓信息。本申请能够有效地提高扫描电子显微镜图像轮廓的精细度。
技术领域
本申请涉及图像轮廓提取领域,尤其是一种基于设计版图的扫描电子显微镜图像轮廓提取方法、装置及电子设备。
背景技术
目前芯片生产过程中,随着芯片生产技术节点不断推进,生产中产生的缺陷越来越小,电子束缺陷检测显得尤为重要。目前传统的电子束缺陷检测主要采取芯片到芯片(Die to Die)检测的方式,然而这种方式对于系统性缺陷和非周期性区域束手无策,而且检测缺陷率过度依赖于检测图像与参考图像之间的对准效果。为了应对这些问题,基于设计版图的电子束缺陷检测方法越来越重要。
现有的扫描电子显微镜图像轮廓提取方案如图1所示:首先基于电子束缺陷检测设备采集待检测区域的扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)图像;其次,利用第一算法(比如:梯度算法)提取SEM图像轮廓,基于SEM图像对SEM图像轮廓进行调整;最后输出SEM图像轮廓。
现有技术完全基于SEM图像信息进行轮廓提取,因此轮廓提取完全取决于SEM图像质量。在图像质量较好的时候,可以很容易提取出较好轮廓,在图像质量较差(边缘模糊,明暗不均匀等)时,提取出来的轮廓往往不完整,这使得其应用面较窄。
因此,如何提高扫描电子显微镜图像轮廓的精细度是本领域技术人员亟需解决的技术问题。
发明内容
本申请的目的是提供了一种基于设计版图的扫描电子显微镜图像轮廓提取方法、装置及电子设备,能够有效地提高扫描电子显微镜图像轮廓的精细度。
根据本申请的第一方面,提供了一种基于设计版图的扫描电子显微镜图像轮廓提取方法,该方法包括:
在采集到待检测区域的扫描电子显微镜图像的情况下,提取扫描电子显微镜图像的第一扫描电子显微镜图像轮廓;
基于扫描电子显微镜图像对第一扫描电子显微镜图像轮廓进行调整,生成第二扫描电子显微镜图像轮廓;
将第二扫描电子显微镜图像轮廓与设计版图对准,生成对准结果;
基于对准结果对第二扫描电子显微镜图像轮廓进行调整,生成第三扫描电子显微镜图像轮廓;
提取第三扫描电子显微镜图像轮廓的轮廓信息。
可选的,基于对准结果对第二扫描电子显微镜图像轮廓进行调整,生成第三扫描电子显微镜图像轮廓,包括:
基于对准结果对第二扫描电子显微镜图像轮廓中的图形线条信息进行调整,生成第三扫描电子显微镜图像轮廓;其中,图形线条信息包括图形线条与第二扫描电子显微镜图像的间隔、图形线条的宽度中的至少一项。
可选的,在将第二扫描电子显微镜图像轮廓与设计版图对准,生成对准结果之后,方法还包括:
基于对准结果进行电子束缺陷检测,得到缺陷检测结果。
可选的,在将第二扫描电子显微镜图像轮廓与设计版图对准,生成对准结果之后,方法还包括:
基于对准结果进行自动量测,得到自动量测结果。
可选的,在采集到待检测区域的扫描电子显微镜图像的情况下,提取扫描电子显微镜图像的第一扫描电子显微镜图像轮廓,包括:
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