[发明专利]双硼嵌入多环芳烃功能分子材料及其制备和应用

权利要求书

1.一种双硼嵌入多环芳烃功能分子材料，其特征在于，其具有式1结构式：

式1中，所述的X₁为O、S或N；

所述的R₁为H、烷基、取代烷基、环烷基、芳基或取代芳基；

所述的R₂为烷基、取代烷基、环烷基、芳基或取代芳基；

所述的取代烷基、取代芳基中的取代基为卤素、CN、C₁-C₆的烷基、C₁-C₆的烷氧基、三氟甲基中的至少一种。

2.如权利要求1所述的双硼嵌入多环芳烃功能分子材料，其特征在于，所述的烷基为C₁-C₂₄的烷基；

所述的取代烷基为在C₁-C₂₄的碳链上带有一个及以上取代基的取代烷基；

所述的芳基为苯基、五元杂环芳基、六元杂环芳基、通过苯环、五元杂环芳基、六元杂环芳基中的任意两个及以上的芳香环并和形成的稠环或者稠杂环基；

优选地，所述的芳基为苯基；

优选地，所述的取代芳基为在芳香环上带有一个及以上取代基的取代芳基；优选为取代苯基；

优选地，取代烷基、取代芳基中的取代基为C₁-C₆的烷基、C₁-C₆的烷氧基或卤素中的至少一种。

3.如权利要求1所述的双硼嵌入多环芳烃功能分子材料，其特征在于，所述的X₁为O或S；

所述的R₁为H；

所述的R₂为苯基或取代苯基；所述的取代苯基为C₁-C₆的烷基、C₁-C₆的烷氧基、卤素、CN中的至少一个取代基取代的苯基。

4.一种权利要求1～3任一项所述的双硼嵌入多环芳烃功能分子材料的制备方法，其特征在于，通过式2化合物、烷基锂、硼源和R₂MgX进行关环反应制得；

所述的式2中，X₁和R₁的选取范围同式1；

所述的X为卤素；

所述的R₂MgX中的R₂选取范围同式1。

5.如权利要求4所述的双硼嵌入多环芳烃功能分子材料的制备方法，其特征在于，所述的烷基锂为C₁～C₆的直链或支链烷基锂，优先为丁基锂；

优选地，所述的硼源为BBr₃、BCl₃、BF₃中的至少一种；

优选地，式2化合物、烷基锂、硼源和R₂MgX的摩尔比为1:2～2.5:2～2.5:4～7。

6.如权利要求4或5所述的双硼嵌入多环芳烃功能分子材料的制备方法，其特征在于，预先将式2化合物、烷基锂、硼源进行第一段混合后进行第一段反应，随后和R₂MgX进行第二段混合后再进行第二段反应；

其中，第一段混合和第二段混合阶段的温度小于或等于4℃；

第一段反应的温度为100～140℃；

第二段反应的温度为15～40℃；

优选地，反应阶段的溶剂为氯苯、甲苯、邻二甲苯中的至少一种；

优选地，关环反应在无水、无氧条件下进行。