[发明专利]一种调控三元材料(010)晶面优先生长的制备方法在审

专利信息
申请号: 202211473630.1 申请日: 2022-11-22
公开(公告)号: CN115849460A 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 明磊;陈聪;欧星 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: C01G53/00 分类号: C01G53/00;C01G51/00;C01G45/12;C01G41/00;H01M4/36;H01M4/525;H01M4/505;H01M4/485;H01M10/0525;H01M4/04
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地址: 410083 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 调控 三元 材料 010 优先 生长 制备 方法
【说明书】:

发明属于锂离子电池材料技术领域,公开了一种调控三元材料(010)晶面优先生长的制备方法。所述三元材料的分子式为LiMmW1‑mO2@LiNixCoyMnzW1‑x‑y‑zO2,其中M为Ni、Co、Mn、Al中的一种或几种,0.5≤m≤1,0.6≤x≤0.9;0.9≤x+y+z≤1。所述三元材料为一次纳米片聚集的二次微米球状结构,二次微米球体平均直径为4‑7μm,一次纳米片长度为400‑700nm,宽度为50‑150nm,曝露晶面为(010)晶面。所述调控三元材料(010)晶面优先生长的具体制备方法为:在三元前驱体合成过程中,通过喷洒或旋转喷洒的方式加入钨源,进一步在锂化过程中分段烧结,使其在低温预烧下能够稳定形成(010)晶面基底,然后在高温烧结下(010)晶面继续成型与稳定。本发明所制备的掺杂材料元素分布均匀,结晶性能好,稳定性高。

技术领域

本发明属于锂离子电池制造技术领域,具体涉及一种调控三元材料(010)晶面优先生长的制备方法。

背景技术

在富镍层状材料中,(001)晶面中包含的NiO6、CoO6和MnO6八面体通过共享的氧原子相互连接,形成致密的阻碍Li+沿c轴插入的结构。(001)晶面的边垂直于a轴和b轴,分别对应了(100)和(010)晶格平面。(100)和(010)面由于具有完全开放的特性,被认为是Li+扩散的活性面,能够保证Li+脱嵌层通道通畅。由于富镍正极材料可以很好地继承前驱体的形态和结构,设计和制备具有高比例(010)晶面的前驱体有利于获得高曝露(010)晶面的正极材料。许多研究人员通过调节共沉淀反应的氨水浓度、反应时间和表面活性剂加入量,来进一步调控目标晶面的主导生长过程。但是这些调节方法的调节效果有限,对材料性能的改善也有限。因此,找到一种既能调节材料的(010)晶面的生长,又能提高材料的电化学性能的方法,对三元材料性能的提升和改善机理的研究有很大的意义。

发明内容

为了解决上述问题本发明首要目的是提供一种调控三元材料(010)晶面优先生长的制备方法。本发明通过对三元前驱体材料进行钨元素掺杂,通过调节钨源的添加方式和锂化烧结方式,制备出高含量的(010)曝露面的钨掺杂的三元材料,有效提高了材料的比容量和电化学循环性能。

本发明的目的具体通过以下技术方案实现:

一种调控(010)晶面优先生长的三元材料,其特征在于,所述三元材料的分子式为LiMmW1-mO2@LiNixCoyMnzW1-x-y-zO2,其中M为Ni、Co、Mn、Al中的一种或几种,0.5≤m≤1,0.6≤x≤0.9;0.9≤x+y+z≤1。所述三元材料为一次纳米片聚集的二次微米球状结构,二次微米球体平均直径为4-7μm,一次纳米片长度为400-700nm,宽度为50-150nm,曝露晶面为(010)晶面。

一种调控三元材料(010)晶面优先生长的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)将镍盐、钴盐、锰盐、钨盐、氢氧化钠溶液和氨水溶液并流进料至反应釜中,调节反应pH,进行一次共沉淀反应,反应一定时间后,形成均匀的一次颗粒;继续并流加入掺杂金属(M)盐、氢氧化钠溶液和氨水溶液,同时调控钨源的加料方式,调节反应pH,进行二次共沉淀反应,反应一定时间后,经过离心、洗涤、干燥后,形成MmW1-m(OH)2@NixCoyMnzW1-x-y-z(OH)2三元前驱体。

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