[发明专利]一种清洁ITO靶材承烧垫片的方法有效
| 申请号： | 202211468271.0 | 申请日： | 2022-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN115710131B | 公开（公告）日： | 2023-10-13 |
| 发明（设计）人： | 陆映东;宋春华;黄誓成;梁盈祥;覃丽莉;黄作;莫斌;薛超;张倍维 | 申请（专利权）人： | 广西晶联光电材料有限责任公司 |
| 主分类号： | C04B35/64 | 分类号： | C04B35/64;C04B35/101;C04B35/482 |
| 代理公司： | 柳州市荣久专利商标事务所(普通合伙) 45113 | 代理人： | 韦微 |
| 地址： | 545036 广西壮族自治区柳州市阳和工*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 清洁 ito 靶材承烧 垫片 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种清洁ITO靶材承烧垫片的方法，其特征在于：包括以下步骤：
（1）将表面附着ITO残留物的承烧垫片放入真空炉中；
（2） 将真空炉升温至1550～1650℃，保温4～10小时，保温期间的真空度为-0.09～-0.04MPa；
（3）保温结束后，将炉温降低至1300～1400℃，然后保温1～4小时，保温期间通入空气或氧气，使炉压在50～120Pa之间；
（4）保温结束后，再将炉温升至1550～1650℃，保温4-10小时，保温时，停止通气，并抽真空，保温期间的真空度为-0.09～-0.04MPa；
（5）保温结束后，随炉冷却至室温，取出垫片，即完成垫片ITO残留物的清洁。
2.根据权利要求1所述的一种清洁ITO靶材承烧垫片的方法，其特征在于：所述垫片的材质是氧化铝或氧化锆。
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