[发明专利]一种用于氢镁素生产过程中的抽真空系统及方法在审
| 申请号: | 202211404202.3 | 申请日: | 2022-11-10 |
| 公开(公告)号: | CN115837249A | 公开(公告)日: | 2023-03-24 |
| 发明(设计)人: | 丁之光 | 申请(专利权)人: | 上海氢美健康科技有限公司 |
| 主分类号: | B01J3/00 | 分类号: | B01J3/00;B01J19/00;C01B6/04;B01D50/20 |
| 代理公司: | 上海国瓴律师事务所 31363 | 代理人: | 王喜坤 |
| 地址: | 200241 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 氢镁素 生产过程 中的 真空 系统 方法 | ||
1.一种用于氢镁素生产过程中的抽真空系统及方法,其特征在于,包括反应釜、缓冲沉积罐、二级缓冲罐、叶轮真空泵、螺杆负压真空泵、电控限流阀、第一压力传感器、第二压力传感器、过滤器和控制箱;
其中,
所述反应釜与所述缓冲沉积罐通过管道连接,所述电控限流阀设置与所述反应釜与所述缓冲沉积罐的管道上;
所述螺杆负压真空泵与通过管道连接所述二级缓冲罐,所述螺杆负压真空泵与所述二级缓冲罐间设置有第一电磁阀;
所述叶轮真空泵通过管道连接所述二级缓冲罐,所述叶轮真空泵与所述二级缓冲罐间设置有第二电磁阀;
所述二级缓冲罐与缓冲沉积罐通过管道连接;所述过滤器设置于所述二级缓冲罐与缓冲沉积罐之间的管道并位于所述缓冲沉积罐内部;
所述第一压力传感器安装于所述反应釜顶部;
所述第二压力传感器安装于所述缓冲沉积罐内部;
所述控制箱内部设置有PLC控制系统;
所述控制箱通过PLC控制系统控制所述反应釜、所述缓冲沉积罐、所述二级缓冲罐、所述叶轮真空泵、所述螺杆负压真空泵、所述电控限流阀、所述第一压力传感器和所述第二压力传感器。
2.根据权利要求1所述的一种用于氢镁素生产过程中的抽真空系统,其特征在于,所述缓冲沉积罐内部的管道口连接有第一沉淀挡板;所述第一沉淀挡板下方设置有集尘管。
3.根据权利要求2所述的一种用于氢镁素生产过程中的抽真空系统,其特征在于,所述二级缓冲罐内部的管道口连接有第二沉淀挡板。
4.根据权利要求3所述的一种用于氢镁素生产过程中的抽真空系统,其特征在于,所述二级缓冲罐侧边开有观察窗。
5.一种基于如权利要求1所述的一种用于氢镁素生产过程中的抽真空系统的抽真空方法,其特征在于,包括步骤如下:
S1,开启系统;
S2,PLC控制系统控制第二电磁阀开启;
S3,PLC控制系统控制叶轮真空泵开始工作;
S4,当第二压力传感器的读数为-0.08MPa,叶轮真空泵停止工作;
S5,PLC控制系统控制第二电磁阀闭合,电控限流阀开启,反应釜内的气体由于压差进入缓冲沉积罐;
S6,当第一压力传感器与第二压力传感器的读数相等时,缓冲沉积罐与反应釜的压力相等,气体停止流动;
S7,PLC控制系统控制电控限流阀关闭,并重复S2-S6步骤;
S8,当电控限流阀完全开放后,第一压力传感器与第二压力传感器均为-0.08MPa时,关闭第二电磁阀,打开第一电磁阀,并启动螺杆负压真空泵直接抽除系统内剩余气体;
S9,当绝对压力为0.14-0.06Pa时,系统停止运行。
6.根据权利要求5所的一种抽真空方法,其特征在于,所述S5步骤中,电控限流阀控制气体流量≤0.3L/s。
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