[发明专利]一种双频段阵列天线及其实现方法在审

专利信息
申请号: 202211397968.3 申请日: 2022-11-09
公开(公告)号: CN116207484A 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 王树庆;詹立宏 申请(专利权)人: 四川斯艾普电子科技有限公司
主分类号: H01Q1/38 分类号: H01Q1/38;H01Q1/50;H01Q13/10;H01Q1/48;H01Q21/00;H05K3/06;H05K3/42;H05K3/46
代理公司: 成都诚中致达专利代理有限公司 51280 代理人: 傅超
地址: 610051 四川省成都市成华区*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 双频 阵列 天线 及其 实现 方法
【权利要求书】:

1.一种双频段阵列天线,其特征在于,包括:第一阵列天线(1)、第二阵列天线(2)及公共馈电功分网络(3);

公共馈电功分网络(3)包括第一金属层(31),第一金属层(31)具有馈电端口(32)及具有微带结构的功分网络(33),功分网络(33)将馈电端口(32)输入的馈电信号一分为二;

第一阵列天线(1)及第二阵列天线(2)呈对称结构分别设于公共馈电功分网络(3)的两面,第一阵列天线(1)及第二阵列天线(2)均包括依次叠放的第二金属层(4)、第三金属层(5)、第四金属层(6)及第五金属层(7),其中第二金属层(4)均朝向公共馈电功分网络(3)一侧;

第一金属层(31)、第二金属层(4)、第三金属层(5)、第四金属层(6)及第五金属层(7)之间均设有陶瓷基板(8);

第二金属层(4)为接地层;

第三金属层(5)具有阻抗匹配网络(51);

第一阵列天线(1)的第二金属层(4)、第三金属层(5)、第一金属层(31)及相邻之间的陶瓷基板(8)贯穿设有第一金属化孔(34),功分网络(33)的一组信号通过第一金属化孔(34)传递给第一阵列天线(1)的阻抗匹配网络(51);

第二阵列天线(2)的第二金属层(4)、第三金属层(5)、第一金属层(31)及相邻之间的陶瓷基板(8)贯穿设有第二金属化孔(35),功分网络(33)的另一组信号通过第二金属化孔(35)传递给第二阵列天线(2)的阻抗匹配网络(51);

第四金属层(6)阵列开设有耦合缝隙(61),且第一阵列天线(1)与第二阵列天线(2)对应的耦合缝隙(61)尺寸存在差异;

第五金属层(7)对应耦合缝隙(61)均设有辐射贴片(71),阻抗匹配网络(51)将信号通过对应的耦合缝隙(61)与辐射贴片(71)进行耦合,第一阵列天线(1)与第二阵列天线(2)对应的辐射贴片(71)形状和/或尺寸存在差异。

2.根据权利要求1所述的双频段阵列天线,其特征在于,对应的耦合缝隙(61)正交方向的辐射贴片(71)设置有变容二极管(72)。

3.根据权利要求1所述的双频段阵列天线,其特征在于,第一阵列天线(1)对应的第二金属层(4)与第三金属层(5)之间的陶瓷基板(8)贯穿设有第三金属化孔(11),用于连通第二金属层(4)及第三金属层(5),且第三金属化孔(11)连接有单独的馈电端口;

第二阵列天线(2)对应的第二金属层(4)与第三金属层(5)之间的陶瓷基板(8)贯穿设有第四金属化孔(21),用于连通第二金属层(4)及第三金属层(5),且第四金属化孔(21)连接有单独的馈电端口。

4.一种双频段阵列天线的实现方法,其特征在于,包括步骤:

提供八块陶瓷基板(8),其中,一块陶瓷基板(8)顶面采用厚膜电路工艺形成第一金属层(31),两块陶瓷基板(8)的顶面采用厚膜电路工艺形成有第二金属层(4),两块陶瓷基板(8)的顶面采用厚膜电路工艺形成有第三金属层(5),两块陶瓷基板(8)的顶面采用厚膜电路工艺形成有第四金属层(6),一块陶瓷基板(8)的顶面采用厚膜电路工艺形成有第五金属层(7),形成有第四金属层(6)的其中一块陶瓷基板(8)的底面采用厚膜电路工艺形成有第五金属层(7);

第一金属层(31)上蚀刻形成馈电端口(32)及功分网络(33),功分网络(33)具有两处信号输出端;

第三金属层(5)上蚀刻形成阻抗匹配网络(51);

第四金属层(6)加工耦合缝隙(61),两块陶瓷基板(8)对应的第四金属层(6)的耦合缝隙(61)的尺寸存在差异;

第五金属层(7)上阵列设置辐射贴片(71),两块陶瓷基板(8)对应的第五金属层(7)上的辐射贴片(71)的形状和/或尺寸存在差异;

叠合;

压合烧结,采用厚膜工艺形成双频段阵列天线。

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