[发明专利]一种铊掺杂Cs3 在审
申请号: | 202211341449.5 | 申请日: | 2022-10-28 |
公开(公告)号: | CN115678546A | 公开(公告)日: | 2023-02-03 |
发明(设计)人: | 李晓明;胡旭东 | 申请(专利权)人: | 南京理工大学 |
主分类号: | C09K11/61 | 分类号: | C09K11/61;H01L31/0216 |
代理公司: | 山西木木三专利代理事务所(普通合伙) 14128 | 代理人: | 颜思文 |
地址: | 210094 江苏省南京*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掺杂 cs base sub | ||
本发明提供一种铊掺杂Cs3Cu2I5闪烁体微晶粉末及其制备方法和应用,包括以下步骤:将碘化亚铜、碘化铯、碘化铊、二甲基甲酰胺和次磷酸混合,搅拌溶解,待反应完全至澄清透明液体时,得前驱体溶液;将反溶剂倒入前驱体溶液中,搅拌至晶体完全析出,离心弃上清液,得铊掺杂Cs3Cu2I5闪烁体微晶沉淀;向沉淀中加入正丁醇,混合均匀,接着离心,弃上清液保留沉淀,得到铊掺杂Cs3Cu2I5闪烁体微晶;将微晶进行真空干燥,研磨过筛,最终得到铊掺杂Cs3Cu2I5闪烁体微晶粉末。该制备方法操作简单,产率高,易于工业化大规模生产,实现了相对于未掺杂Cs3Cu2I5本征材料光产额的大幅提升。
技术领域
本发明涉及无机半导体闪烁体材料的技术领域,尤其涉及一种铊掺杂Cs3Cu2I5闪烁体微晶粉末及其制备方法和应用。
背景技术
金属卤化物具有较高的辐射发光效率,是一种应用最为广泛的闪烁体材料。但是,目前商用的金属卤化物闪烁体如CsI:Tl和NaI:Tl虽然具有较高的光产额,但是普遍具有很长的余辉,无法通过便捷加工方法实现合成工艺上的简化。并且现有的金属卤化物闪烁体的吸湿性强。目前主流的制备方法为坩埚生长法,使用蒸镀方法成膜;此外由于其晶体较大所存在的缺陷问题,难以实现柔性探测与高分辨成像(IeeeSensors Journal,2009,9(9),1154-1156,Astroparticle Phys,2019,108(6),50-56);同时,由于其无法实现光谱的可调谐,以至于其无法完全匹配平板探测器的最佳探测波段(J Phy D,2015,118(21),213106;Ieee T Nucl Sci,1998)。
稀土掺杂的卤化物如LaX3:Ce(J Phy D,2006.99(12),123520;Appl.Phys.Lett.,2001,79(10),1573-1575),具有高光产额、衰减时间短、能量分辨率高等优势。但是,由于稀土元素资源稀缺且生产成本高,故仍需要寻找无稀土离子的闪烁体材料。
金属卤化物钙钛矿因具有量子产率高、发光波长可调谐、制备简单、成本低等优势,被认为是一类有应用前景的闪烁体材料(Nature,2018,561(7721),88-93;ACS Nano,2019,13(2),2520-2525)。然而,严重的自吸收效应导致的低光产额,大大限制了其实际应用。铜基卤化物Cs3Cu2I5闪烁体(Adv.Sci.,2020,7(11),2000195)较上述材料稳定性较好,但光产额偏低,因此亟需引入掺杂离子以提高其辐射发光强度来提高其光产额(NuclearInst.and Methods in Physics Research,2021,991,164963,Adv.Optical.Mater.2021,9(13),2100460),目前铊掺杂已被证明是提高此种材料光产额的不二选择。
此外,利用坩埚生长与升华蒸镀的方法来制备大面积闪烁体薄膜成本高,对设备、工艺要求苛刻(Adv.Funct.Mater.2021,9(31),2007921)。固相烧结与室温研磨法虽然能够大产率合成闪烁体块体粉末,但封装工艺繁琐,颗粒粒径较大,成膜质量不佳,致使成像分辨率低(Adv.Optical.Mater.2022,10(12),2102232)。目前,新兴的原位闪烁体薄膜制备技术虽成膜性能优良,但普遍固含量低,辐射发光效率差,因而不利于低剂量检测(Adv.Funct.Mater.2022,32(2),2107424)。
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