[发明专利]一种光纤元器件的表面处理工艺

说明书

本发明公开了一种光纤元器件的表面处理工艺，包括以下步骤：1)上料，采用第一水基清洗剂进行真空超声波粗洗，洗去光纤产品表面大部分的加工液；2)采用第二水基清洗剂进行真空超声波精洗，洗去光纤产品表面残留的少量加工液；3)至少一次采用纯水进行真空超声波漂洗，清除光纤产品表面残留的微量加工液；4)风刀切液，去除光纤产品表面上的水；5)干燥处理后，下料。本发明的清洗工艺使用的清洗机是全自动封闭式作业，替代了原来的人工操作清洗，大大降低了人工的劳动强度。清洗工艺清洗品质稳定，良率提高到95％以上。

技术领域

本发明涉及光纤元器件清洗的技术领域，具体涉及光纤元器件的表面处理工艺。

背景技术

消费电子产品光纤元器件的表面处理常见的清洗工艺流程为：人工装夹产品→超声波粗洗→超声波精洗→超声波漂洗→切液热风烘干→人工下料将产品转移到下一加工工序。超声波清洗中所用的清洗剂的主要成分为表面活性剂和异丙醇，但是清洗后的产品表面易出现水印、粉尘、金属颗粒残留等不良，不良率20％-30％。其中异丙醇易燃易爆，危险性大；并且清洗过程产生废水量大，污染环境，废水处理费用高。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种光纤元器件的表面处理工艺，不选用异丙醇作为清洗剂，采用清洗设备进行清洗，代替人工操作，生产品质稳定，清洗良率有所提高。

本发明的目的采用如下技术方案实现：

一种光纤元器件的表面处理工艺，包括以下步骤：

1)采用第一水基清洗剂对光纤元器件进行真空超声波清洗；

2)采用第二水基清洗剂对光纤元器件进行真空超声波清洗；

3)采用水对光纤元器件进行至少一次的真空超声波漂洗；

4)对光纤元器件进行风刀切液；

5)对光纤元器件进行干燥处理，下料，进行下一加工工序。

进一步，步骤1)～5)中，采用机器人上下料。

具体地，所述第一水基清洗剂包括以下按重量百分比计的原料：

表面活性剂8～12％、α-烯基磺酸钠4～8％、烷基酚聚氧乙烯醚8～15％、脂肪醇聚氧乙烯醚10～15％、三乙醇胺2～4％，余量为水。

所述第二水基清洗剂包括以下按重量百分比计的原料：

表面活性剂8～13％、脂肪醇聚氧乙烯醚11～15％、脂肪胺聚氧乙烯醚12～16％、磺酸8～11％、EDTA四钠5～7％，余量为水。

进一步，还包括步骤6)，至少一次的真空超声波漂洗的漂洗用水经过循环过滤，回收利用。循环过滤是通过在清洗机中设置循环多级系统实现的，在该系统的作用下，系统内置的过滤芯将槽液中的粉尘、金属颗粒、纤维等细小颗粒吸附留置在滤芯本体上，保证了过滤后的漂洗用水的洁净，可回收利用。

进一步，步骤1)中，真空超声波清洗的步骤为：先将所述光纤元器件在第一水基清洗剂进行清洗，再进行真空清洗、入气清洗和超声波抛动清洗，具体的条件为：液体设定温度为30～50℃，清洗时间为120～360s；真空清洗时间为10～30s，入气清洗时间为10～20s，超声波频率为20～30KHz，优选为28KHz，超声波大小为10～100％，抛动方式为上下摇摆，抛动速度为10～60Hz，真空度为-70～-60KPa，滴液时间为5～20s。