[发明专利]一种光纤元器件的表面处理工艺

权利要求书

1.一种光纤元器件的表面处理工艺，其特征在于，包括以下步骤：

1)采用第一水基清洗剂对光纤元器件进行真空超声波清洗；

2)采用第二水基清洗剂对光纤元器件进行真空超声波清洗；

3)采用水对光纤元器件进行至少一次的真空超声波漂洗；

4)对光纤元器件进行风刀切液；

5)对光纤元器件进行干燥处理，下料，进行下一加工工序。

2.如权利要求1所述的光纤元器件的表面处理工艺，其特征在于，步骤1)～5)中，采用机器人上下料。

3.如权利要求1所述的光纤元器件的表面处理工艺，其特征在于，所述第一水基清洗剂包括以下按重量百分比计的原料：

表面活性剂8～12％、α-烯基磺酸钠4～8％、烷基酚聚氧乙烯醚8～15％、脂肪醇聚氧乙烯醚10～15％、三乙醇胺2～4％，余量为水；

所述第二水基清洗剂包括以下按重量百分比计的原料：

表面活性剂8～13％、脂肪醇聚氧乙烯醚11～15％、脂肪胺聚氧乙烯醚12～16％、磺酸8～11％、EDTA四钠5～7％，余量为水。

4.如权利要求1所述的光纤元器件的表面处理工艺，其特征在于，还包括步骤6)，至少一次的真空超声波漂洗的漂洗用水经过循环过滤，回收利用。

5.如权利要求1所述的光纤元器件的表面处理工艺，其特征在于，步骤1)中，真空超声波清洗的步骤为：先将所述光纤元器件在第一水基清洗剂进行清洗，再进行真空清洗、入气清洗和超声波抛动清洗，具体的条件为：液体设定温度为30～50℃，清洗时间为120～360s；真空清洗时间为10～30s，入气清洗时间为10～20s，超声波频率为20～30KHz，超声波大小为10～100％，抛动方式为上下摇摆，抛动速度为10～60Hz，真空度为-70～-60KPa，滴液时间为5～20s。

6.如权利要求1所述的光纤元器件的表面处理工艺，其特征在于，步骤2)中，真空超声波清洗的步骤为：先将所述光纤元器件在第二水基清洗剂进行清洗，再进行真空清洗、入气清洗和超声波抛动清洗，具体的条件为：液体设定温度为30～50℃，清洗时间为120～360s；真空清洗时间为10～30s，入气清洗时间为10～20s，超声波频率为20～30KHz，超声波大小为10～100％，抛动方式为上下摇摆，抛动速度为10～60Hz，真空度为-70～-60KPa，滴液时间为5～20s。

7.如权利要求1所述的光纤元器件的表面处理工艺，其特征在于，步骤3)中，采用水对光纤元器件进行三次的真空超声波漂洗，包括以下步骤：先将所述光纤元器件在水中进行清洗，再进行真空清洗、入气清洗和超声波抛动清洗，具体的条件为：真空超声波清洗的条件为：液体设定温度为30～50℃，清洗时间为180～420s；真空清洗时间为10～30s，入气清洗时间为10～20s，超声波频率为20～90KHz，超声波大小为10～100％，抛动方式为上下摇摆，抛动速度为10～60Hz，真空度为-70～-60KPa，滴液时间为5～20s。

8.如权利要求1或7所述的光纤元器件的表面处理工艺，其特征在于，步骤3)中，采用水对光纤元器件进行三次的真空超声波漂洗；第一次真空超声波清洗的超声波频率为30～50KHz；第二次真空超声波清洗的超声波频率为60～70KHz；第三次真空超声波清洗的超声波频率为70～90KHz。

9.如权利要求1所述的光纤元器件的表面处理工艺，其特征在于，步骤4)中，采用干净的压缩空气对光纤元器件进行风刀切液；风刀切液的条件为：入气压力0.1～0.4MPa，切液时间120～360s。

10.如权利要求1所述的光纤元器件的表面处理工艺，其特征在于，步骤4)中，所述干燥处理为热风真空干燥处理，具体条件为：热风温度为45～60℃，热风次数3～5次，热风时间为20～40s，干燥真空度为-100～-90KPa，干燥时间为360～600s。