[发明专利]一种超薄多焦距镜片及其制作方法

权利要求书

1.一种超薄多焦距镜片，其特征在于，包括上半区菲涅尔透镜和下半区菲涅尔透镜，所述上半区菲涅尔透镜和所述下半区菲涅尔透镜均截取半圆区域，所述上半区菲涅尔透镜和所述下半区菲涅尔透镜的截面进行拼接组合，所述上半区菲涅尔透镜和所述下半区菲涅尔透镜的焦距不同；

所述上半区菲涅尔透镜和所述下半区菲涅尔透镜的表面均设有环带结构，所述上半区菲涅尔透镜和所述下半区菲涅尔透镜的曲面面形不同。

2.根据权利要求1所述的超薄多焦距镜片，其特征在于，所述环带结构包括多个等厚的截面，等厚的所述截面由普通透镜的曲面面形拆分而成，多个等厚的截面由内向外分布于平面材料上。

3.根据权利要求2所述的超薄多焦距镜片，其特征在于，每个所述环带结构上均设有齿槽，所述环带结构的数量根据所述齿槽的深度进行选择，所述齿槽的深度不超过10微米，所述环带结构的数量为180-200环。

4.根据权利要求3所述的超薄多焦距镜片，其特征在于，所述齿槽的深度越大、所述环带结构的数量越多，所述齿槽的深度越小、所述环带结构的数量越少。

5.根据权利要求4所述的超薄多焦距镜片，其特征在于，平行光经过所述上半区菲涅尔透镜的聚焦点距离比平行光经过所述下半区菲涅尔透镜的聚焦点距离远，所述上半区菲涅尔透镜和所述下半区菲涅尔透镜的焦距能够通过调整面形参数进行调整，面形参数包括曲率半径和高次修正系数。

6.根据权利要求4所述的超薄多焦距镜片，其特征在于，所述环带结构采用高精度激光直写技术及纳米压印技术结合的工艺流程制作而成。

7.一种超薄多焦距镜片的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：涂胶，将光刻胶旋涂于硅片上，

S2：前烘干，将硅片置于加热板上对光刻胶进行软烘，使得光刻胶具备一定的硬度；

S3：曝光，使用激光直写设备对光刻胶进行曝光，通过调整曝光功率能够控制曝光深度；

S4：显影，曝光结束后，对光刻胶进行显影，显影后得到透镜的环带结构；

S5：后烘干，将步骤S4的产品进行硬烘干，得到用于纳米压印的透镜模具；

S6：转印，运用纳米压印设备，将模具上的透镜结构转移至有机玻璃(PMMA)上，脱模后即得到透镜。

8.根据权利要求7所述的超薄多焦距镜片的制作方法，其特征在于，步骤S1所述光刻胶选择S1818光刻胶，二阶段旋涂，涂胶完成后的光刻胶膜厚度为2.5微米，步骤S3中的激光曝光剂量1276μJ/mm²，曝光分辨率300nm，扫描速度200mm/s，步骤S4中的显影采用喷淋显影，根据光刻胶膜厚2.5微米选择显影时间为35s。

9.根据权利要求7所述的超薄多焦距镜片的制作方法，其特征在于，所述前烘干的加热板温度110℃，前烘干的时间为1min，所述后烘干的加热板温度110℃，后烘干的时间为30S，步骤S6中的转印采用机玻璃(PMMA)作为转印底材，能够直接成形透镜，方便大规模制造。