[发明专利]振动元件的制造方法

说明书

振动元件的制造方法。能够一并形成外形和槽。振动元件的制造方法包括：底膜形成工序，在石英基板的第1基板面中的第1振动臂形成区域和第2振动臂形成区域形成第1底膜；保护膜形成工序，在第1底膜中的堤部形成区域形成第1保护膜；以及干蚀刻工序，隔着第1底膜和第1保护膜对石英基板进行干蚀刻。

技术领域

本发明涉及振动元件的制造方法。

背景技术

专利文献1记载了通过湿蚀刻和干蚀刻形成音叉型振子的方法，该音叉型振子在振动臂上具有带底的槽。在该制造方法中，通过对石英基板进行湿蚀刻形成音叉型振子的外形，然后，通过干蚀刻形成槽。

专利文献2记载了通过干蚀刻形成音叉型振子的方法，该音叉型振子在振动臂上具有带底的槽。在该制造方法中，在对由压电材料构成的基板进行干蚀刻时，通过使槽的宽度相对于一对振动臂之间的宽度变窄，从而利用微负载效应，使槽的蚀刻深度相对于一对振动臂之间的蚀刻深度变浅，一并形成振子的槽和外形形状。

专利文献1：日本特开2013-175933号公报

专利文献2：日本特开2007-013382号公报

在专利文献1的制造方法中，形成外形的湿蚀刻和形成槽的干蚀刻分别是不同的工序，因此，制造工序复杂，容易产生槽相对于外形的位置偏移等。因此，基于该制造方法的振动元件存在容易产生无用振动等的问题。

另一方面，在专利文献2的制造方法中，利用同一工序一并形成外形和槽，因此，不会产生上述问题。但是，在该制造方法中，利用干蚀刻中的微负载效应一并形成外形和槽，所以，对振动臂的宽度、槽的宽度和深度等尺寸的设定产生制约，存在设计自由度低的问题。

因此，要求能够一并形成外形和槽且设计自由度高的振动元件的制造方法。

发明内容

在本发明的振动元件的制造方法中，所述振动元件具有沿着第1方向延伸并沿着与所述第1方向交叉的第2方向排列的第1振动臂和第2振动臂，所述第1振动臂和所述第2振动臂分别具有第1面和第2面以及在所述第1面开口的带底的槽，所述第1面和所述第2面在与所述第1方向以及所述第2方向交叉的第3方向上排列配置并处于正反关系，所述制造方法包括：准备工序，准备具有处于正反关系的第1基板面和第2基板面的石英基板；底膜形成工序，在所述第1基板面中的形成所述第1振动臂的第1振动臂形成区域和形成所述第2振动臂的第2振动臂形成区域形成第1底膜；保护膜形成工序，在所述第1底膜中的除了形成所述槽的槽形成区域以外的区域形成第1保护膜；以及干蚀刻工序，隔着所述第1底膜和所述第1保护膜从所述第1基板面侧对所述石英基板进行干蚀刻，形成所述第1面、所述槽、所述第1振动臂以及所述第2振动臂的外形。

附图说明

图1是示出实施方式1的振动元件的俯视图。

图2是图1中的A1-A1线剖视图。

图3是示出实施方式1的振动元件的制造工序的图。

图4是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图5是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图6是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图7是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图8是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图9是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图10是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图11是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图12是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。

图13是用于说明振动元件的制造方法的剖视图。