[发明专利]一种曲线掩膜的数字图像生成方法、装置及计算机设备在审
申请号: | 202211288403.1 | 申请日: | 2022-10-20 |
公开(公告)号: | CN116051669A | 公开(公告)日: | 2023-05-02 |
发明(设计)人: | 高世嘉 | 申请(专利权)人: | 东方晶源微电子科技(北京)有限公司 |
主分类号: | G06T11/20 | 分类号: | G06T11/20;G06T5/00;G06T7/13 |
代理公司: | 深圳市智享知识产权代理有限公司 44361 | 代理人: | 冯彬彬 |
地址: | 100176 北京市大兴区北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 曲线 数字图像 生成 方法 装置 计算机 设备 | ||
本发明涉及光刻技术领域,其特别涉及一种曲线掩膜的数字图像生成方法、装置及计算机设备,本发明提供的一种曲线掩膜的数字图像生成方法,包括以下步骤:基于预处理图像的像素点提取轮廓点并基于轮廓点建立贝塞尔曲线的数学曲线模型;基于数学曲线模型对预处理图像进行预处理获得数字信号图像;对数字信号图像依次进行卷积处理和降采样处理以生成数字图像。本发明还提供一种装置及计算机设备。解决了现有技术生成数字图像效率低,清晰度差问题。
技术领域
本发明涉及计算光刻技术领域,其特别涉及一种曲线掩膜的数字图像生成方法、装置及计算机设备。
背景技术
集成电路的物理设计是以性能、功耗和面积为考量指标,设计可用于制造的掩模版图文件面积与标准单元的层次化设计,为电子设计自动化提供了良好的环境。
目前的曲线掩模版图,包括基于光学和极紫外线光刻技术的掩模主要由的微小特征组成。鉴于曲线轮廓特性,目前标准单元的图像设计系统主要以像素化形式展现曲线掩模轮廓版图。现有技术通过将像素化后的像素点进行拟合获得曲线掩膜的轮廓,拟合过程中,像素点的数据量大需要耗费大量算力,因此渲染生成数字图像需要花费大量时间,同时拟合获得的曲线掩膜轮廓清晰度差导致最终渲染生成的数字图像容易出现清晰度差的问题。
发明内容
为了解决现有技术中生成数字图像效率低,清晰度差问题,本发明提供一种曲线掩膜的数字图像生成方法、装置及计算机设备。
本发明为解决上述技术问题,提供如下的技术方案:一种曲线掩膜的数字图像生成方法,包括以下步骤:
获取预处理图像;
基于预处理图像的像素点提取轮廓点并基于轮廓点建立贝塞尔曲线的数学曲线模型;
基于数学曲线模型对预处理图像进行预处理获得数字信号图像;
对数字信号图像依次进行卷积处理和降采样处理以生成数字图像。
优选地,获取预处理图像包括如下步骤:
通过视觉识别的方式获取掩膜上的初始图像;
将初始图像进行像素化以获得初始图像像素点;
采用预设算法对像素点进行降噪处理以获得预处理图像。
优选地,其特征在于:所述预设算法为高斯平滑,所述高斯平滑的公式为:
;
其中x为像素点的横轴坐标值,y像素点的纵轴坐标值,为置信区间。
优选地,基于数学曲线模型对预处理图像进行预处理获得数字信号图像包括如下步骤:
识别预处理图像上所有的像素点;
基于数学曲线模型对预处理图像进行二值化处理以对像素点进行第一赋值或第二赋值以生成数字信号图像。
优选地,基于数学曲线模型对预处理图像进行二值化处理包括如下步骤:
界定数学曲线模型为边界并采用射线法判断像素点是否在边界内;
若像素点处于边界内,对像素点进行第一赋值;若像素点处于边界外,对像素点进行第二赋值。
优选地,所述对数字信号图像依次进行卷积处理包括如下步骤:采用SINC函数对数字信号图像进行处理;所述SINC函数为:
;
其中x为像素点坐标值。
优选地,采用轮廓提取法或边界跟踪法基于预处理图形的像素点提取轮廓点。
本发明为解决上述技术问题,提供又一技术方案如下:一种装置,应用于上述曲线掩膜的数字图像生成方法,所述装置包括:
识别模块:用于获取预处理图像的像素点;
提取模块:用于基于预处理图像的像素点提取轮廓点;
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