[发明专利]一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏及其制备方法

权利要求书

1.一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏，其特征在于，包括依次设置的菲涅尔基材层、菲涅尔功能层、菲涅尔光学微结构层和菲涅尔反射层，激光投影机发射的入射光依次穿过菲涅尔基材层、菲涅尔功能层和菲涅尔光学微结构层，再通过菲涅尔反射层反射至菲涅尔光学屏外；菲涅尔基材层具有菲涅尔基材层A面和菲涅尔基材层B面，菲涅尔基材层B面靠近涅菲尔功能层设置，菲涅尔基材层A面的表面粗糙度在50nm～200nm范围内；菲涅尔功能层内设有不同粒径和不同表面粗糙度的光学粒子；菲涅尔光学微结构层由若干个光学微结构成排设置而成，且若干个光学微结构的节距从下至上逐渐缩小；菲涅尔光学微结构层与菲涅尔反射层相嵌合设置。

2.根据权利要求1所述一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏，其特征在于，所述菲涅尔基材层A面的表面粗糙度设置为150nm。

3.根据权利要求1所述一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏，其特征在于，所述激光投影机采用三色激光投影机。

4.根据权利要求1所述一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏，其特征在于，所述光学微结构为半圆弧结构或锯齿形结构，且光学微结构的节距在0.05mm～0.2mm之间。

5.根据权利要求4所述一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏，其特征在于，所述光学微结构为锯齿形结构时，底角的角度为20°～60°。

6.根据权利要求1所述一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏，其特征在于，所述菲涅尔反射层采用铝、银、铜或复合氧化钛中任一一种制作而成，厚度为0.01μm～0.1μm。

7.一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏的制作方法，以制作如权利要求1-6任一项所述一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏，其特征在于，具体制作方法包括：

对菲涅尔基材层A面进行表面处理，并通过测试散斑对比度仪器测量菲涅尔基材层A面的表面粗糙度，将菲涅尔基材层A面的表面粗糙度控制在50nm～200nm范围内，使低散斑对比度＜3％；

将菲涅尔基材层B面与菲涅尔功能层连接面相粘接；

将不同粒径范围、不同表面粗糙度的光学粒子，混合在丙烯酸系列胶水之中，丙烯酸系列胶水的折射率在1.35～1.6，固化之后透过率大于90％，通过UV固化后得到菲涅尔功能层；

由有机高分子材料通过模压制备成菲涅尔光学微结构层，菲涅尔光学微结构层的有机高分子材料折射率控制在1.4～1.65，形成为半弧形结构或锯齿形结构。

8.根据权利要求7所述一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏的制作方法，其特征在于，对菲涅尔基材层A面进行表面处理，通过电晕处理法或涂覆方式实现。

9.根据权利要求7所述一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏的制作方法，其特征在于，所述菲涅尔基材层B面与菲涅尔功能层采用丙烯酸系列胶水进行粘接，且丙烯酸系列胶水固化之后的透过率大于90％。

10.根据权利要求7所述一种高增益低散斑对比度菲涅尔光学屏的制作方法，其特征在于，所述菲涅尔基材层的基材采用有机高分子材料，且有机高分子材料的透过率大于90％，粒径为0.2mm～0.5mm。