[发明专利]一种超薄薄膜镀膜用的蒸发源机构及镀膜设备和镀膜方法

权利要求书

1.一种超薄薄膜镀膜用的蒸发源机构，其特征在于，包括坩埚、陶瓷组件、感应线圈、冷却铜块和金属丝送丝组件，坩埚中部设有一端开口的熔池，开口处的坩埚端部设有冷却铜块，冷却铜块中部设有与坩埚上开口相通的通孔，坩埚外周设有陶瓷组件，陶瓷组件外周设有感应线圈，感应线圈和冷却铜块相连接并组成加热组件；

金属丝送丝组件包括金属丝盘、送丝轮组件、送丝导管和耐高温套，金属丝盘放出金属丝后，在送丝轮组件牵引和输送下，进入送丝导管，沿着送丝导管的引导从坩埚底部进入熔池中；

坩埚由下至上依次包括金属丝固体区、金属丝半熔化区、金属丝中温熔化区和金属丝高温蒸发区。

2.根据权利要求1所述一种超薄薄膜镀膜用的蒸发源机构，其特征在于，所述陶瓷组件包括陶瓷支承座和陶瓷套管，陶瓷支承座设于坩埚下部的外周或设于坩埚底部的外周，陶瓷套管设于坩埚外周与感应线圈之间。

3.根据权利要求1所述一种超薄薄膜镀膜用的蒸发源机构，其特征在于，所述坩埚底部与送丝导管的相接处，送丝导管外周还设有耐高温套。

4.根据权利要求1所述一种超薄薄膜镀膜用的蒸发源机构，其特征在于，所述金属丝送丝组件包括金属丝盘、送丝轮组件、送丝导管和耐高温套，金属丝盘放出金属丝后，在送丝轮组件牵引和输送下，依次进入送丝导管和耐高温套，沿着送丝导管和耐高温套的引导进入坩埚顶部的蒸发口处。

5.一种超薄薄膜镀膜用的镀膜设备，其特征在于，设有权利要求1～4任一项所述蒸发源机构；

镀膜设备中的镀膜区中设有至少一组镀膜辊组，每组镀膜辊组包括两个镀膜辊；在同一镀膜辊组中，沿基材输送方向，两个镀膜辊分别为第一镀膜辊和第二镀膜辊，每个镀膜辊的外周分别形成磁控溅射镀膜区域和蒸发镀膜区域，磁控溅射镀膜区域中分布有若干旋转磁控靶，蒸发镀膜区域中设有蒸发源机构。

6.根据权利要求5所述一种超薄薄膜镀膜用的镀膜设备，其特征在于，所述磁控溅射镀膜区域与蒸发镀膜区域之间设有隔离板，隔离板末端与镀膜辊表面之间留有供基材通过用的基材通道，基材通道的宽度≤3mm。

7.根据权利要求6所述一种超薄薄膜镀膜用的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备中，镀膜室内腔截面呈跑道状，镀膜室内设有一组镀膜辊，两个镀膜辊并排分布于镀膜室中，通过隔离板的设置，镀膜室的一侧形成磁控溅射镀膜区域，镀膜室的另一侧形成蒸发镀膜区域，两个镀膜辊外侧的磁控溅射镀膜区域相通，两个镀膜辊外侧的蒸发镀膜区域相通。

8.根据权利要求5所述一种超薄薄膜镀膜用的镀膜设备，其特征在于，沿基材输送方向，镀膜辊组的基材入口端连接有放卷机构，镀膜辊组的基材出口端连接有收卷机构，镀膜辊组的基材出口端与收卷机构之间还设有冷却辊组。

9.根据权利要求8所述一种超薄薄膜镀膜用的镀膜设备，其特征在于，所述收卷机构包括沿基材输送方向依次设置的定速辊和收卷辊，定速辊与收卷辊相配合，定速辊的辊轴连接有定速辊驱动电机，收卷辊的辊轴通过同步带组件连接有收卷辊驱动电机，收卷辊的辊轴两端还分别设有压紧连杆，两个压紧连杆的一端共同连接有液压缸，两个压紧连杆的另一端共同连接有收卷辊摆动芯轴。

10.根据权利要求5～9任一项所述镀膜设备实现一种超薄薄膜镀膜用的镀膜方法，其特征在于，基材进入镀膜区后，进行至少一次“第一面磁控溅射镀膜-第一面蒸发镀膜-第二面磁控溅射镀膜-第二面蒸发镀膜”的双面交替镀膜和冷却；其中，第一面磁控溅射镀膜和第一面蒸发镀膜在第一镀膜辊外侧完成，第二面磁控溅射镀膜和第二面蒸发镀膜在第二镀膜辊外侧完成；通过第一镀膜辊外侧的旋转磁控靶在基材的第一面上形成具有良好附着力的铜膜过渡层后，第一镀膜辊外侧的蒸发源机构接着在基材的第一面上快速沉积形成铜膜层；再通过第二镀膜辊外侧的旋转磁控靶在基材的第二面上形成具有良好附着力的铜膜过渡层后，第二镀膜辊外侧的蒸发源机构接着在基材的第二面上快速沉积形成铜膜层。