[发明专利]一种5G基站壳用低介电材料及其制备方法

权利要求书

1.一种5G基站壳用低介电材料，其特征在于：由改性树脂液与强化填料以重量份比25-30:4-8共混复合制得；

所述的改性树脂液由如下步骤制成：

将4,4'-二氨基二苯醚、1,3-双(4'-氨基苯氧基)苯、N,N'-二氨基乙酰胺混合均匀，加入4,4'-六氟亚异丙基邻苯二甲酸酐，进行反应，加入二甲苯，升温进行反应，降至室温并加入乙醇，过滤去除滤液，将底物和双酚A型氰酸酯单体混合搅拌后，升温反应，制得改性树脂液。

2.根据权利要求1所述的一种5G基站壳用低介电材料，其特征在于：所述的4,4'-二氨基二苯醚、1,3-双(4'-氨基苯氧基)苯、4,4'-六氟亚异丙基邻苯二甲酸酐的用量摩尔比为1:1:2.25，底物和双酚A型氰酸酯单体的用量质量比为1:3.5。

3.根据权利要求1所述的一种5G基站壳用低介电材料，其特征在于：所述的强化填料由如下步骤制成：

步骤A1：将柠檬酸溶于去离子水中，加入环氧氯丙烷和氢氧化钠，进行反应后，调节反应液pH值为酸性，蒸馏去除去离子水，再过滤去除滤液，制得中间体1；

步骤A2：将纳米氮化硅分散在去离子水中，加入γ-氨丙基三乙氧基硅烷和乙醇，进行反应后，过滤去除滤液，将底物分散在四氢呋喃中，加入中间体1并调节反应液pH值为碱性，进行反应后，调节反应液pH值为酸性，制得改性纳米碳化硅；

步骤A3：将改性纳米碳化硅、N-羟基琥珀酰亚胺、去离子水混合均匀，调节反应液pH值，进行反应后，加入金属有机框架、醋酸铅、环糊精，调节反应液pH值，进行反应后，过滤去除滤液，将底物烘干，制得强化填料。

4.根据权利要求3所述的一种5G基站壳用低介电材料，其特征在于：步骤A1所述的柠檬酸、环氧氯丙烷、氢氧化钠的用量摩尔比为1:1:1.1。

5.根据权利要求3所述的一种5G基站壳用低介电材料，其特征在于：步骤A2所述的纳米氮化硅、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、中间体1的用量质量比为5:0.5:0.3。

6.根据权利要求3所述的一种5G基站壳用低介电材料，其特征在于：步骤A3所述的改性纳米碳化硅、N-羟基琥珀酰亚胺、金属有机框架、醋酸铅、环糊精的用量比为2:1.5:0.8:20:8.5。

7.根据权利要求3所述的一种5G基站壳用低介电材料的制备方法，其特征在于：具体包括如下步骤：

将改性树脂液和强化填料混合均匀，在温度为100-110℃的条件下，脱气处理2-4h后，加入模具中，升温至温度为130-150℃，进行反应1-2h后，继续升温至温度为160-180℃，进行反应2-3h后，降至室温，脱模制得低介电材料。