[发明专利]一种基于氮化碳的复合光催化剂及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 202211267134.0 申请日: 2022-10-17
公开(公告)号: CN115337954B 公开(公告)日: 2023-01-03
发明(设计)人: 郝彦海;张超;王艳;郝敬瑞;牛忠华;秋淑娟;郭旭光;张宝仲;王世杰 申请(专利权)人: 山东环投环境工程有限公司
主分类号: B01J27/24 分类号: B01J27/24;B01J37/08;B01J37/10;C01B3/04;C09K11/65;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 王磊
地址: 250305 山东省济南市*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 氮化 复合 光催化剂 及其 制备 方法 应用
【说明书】:

发明属于光催化技术领域,涉及光催化分解水制氢,具体涉及一种基于氮化碳的复合光催化剂及其制备方法与应用。制备方法包括以下步骤:将HKH与BPTA加入至甲醇与N‑甲基吡咯烷酮的混合液中进行溶剂热反应获得Bulk‑C4N,采用水热法对Bulk‑C4N进行处理获得C4N量子点溶液;将三聚氰胺热解获得Bulk‑C3N4,在空气氛围下,将Bulk‑C3N4程序升温至510~550℃热处理获得C3N4纳米片;将C3N4纳米片加入至C4N量子点溶液搅拌混合后,静置即得。本发明提供的光催化剂能够改善C3N4的缺陷,降低带宽,从而有效提高光催化剂的光生电子和空穴分离效率,改善材料的光催化制氢性能。

技术领域

本发明属于光催化技术领域,涉及光催化分解水制氢,具体涉及一种基于氮化碳的复合光催化剂及其制备方法与应用。

背景技术

公开该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本发明的总体背景的理解,而不必然被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已经成为本领域一般技术人员所公知的现有技术。

C3N4具有类似石墨烯的二维片层结构,是一类聚合物半导体,结构中存在6个孤对电子的氮,并且禁带宽度约为2.7 e V。其能带结构易于产生光生载流子,从而提高对可再生太阳能的利用,实现光催化。层状结构的C3N4是一种有效载体,可以提高活性位点和反应物的接触面积,改善材料分散性,避免物质的聚集。但是,较宽的禁带宽度使其对全光谱可见光吸收率相对较低,并且载流子复合率过高,导致C3N4作为光催化剂的光催化效果较差。

发明内容

为了解决现有技术的不足,本发明的目的是提供一种基于氮化碳的复合光催化剂及其制备方法与应用,本发明提供的光催化剂能够改善C3N4的缺陷,降低带宽,抑制电荷复合,从而有效提高光催化剂的光生电子和空穴分离效率,改善材料的光催化制氢性能。

为了实现上述目的,本发明的技术方案为:

一方面,一种基于氮化碳的复合光催化剂的制备方法,包括以下步骤:

将环己六酮(HKH)与3,3' -二氨基联苯胺(BPTA)加入至甲醇与N-甲基吡咯烷酮的混合液中进行溶剂热反应获得Bulk-C4N,采用水热法对Bulk-C4N进行处理获得C4N量子点(C4NDs)溶液;

将三聚氰胺进行热解获得Bulk-C3N4,在空气氛围下,将Bulk-C3N4程序升温至510~550 ℃进行热处理获得C3N4纳米片(C3N4NSs);

将C3N4纳米片加入至C4N量子点溶液搅拌混合后,静置即得。

本发明通过C4N量子点与C3N4纳米片复合后形成异质复合材料,其界面可以促进电荷分离,抑制复合速率,并且在范德华力作用下使得材料具有较小的带隙,有助于增强复合材料对可见光的光吸收能力以及光稳定性。此外,形成的异质复合材料具有大的比表面积,可以提供大量反应活性位点。

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