[发明专利]基于点阵扫描法完成复合运动镀膜均匀性的评估系统在审
| 申请号: | 202211264725.2 | 申请日: | 2022-10-17 |
| 公开(公告)号: | CN115689278A | 公开(公告)日: | 2023-02-03 |
| 发明(设计)人: | 郭壮柱 | 申请(专利权)人: | 北京中科科美科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G06Q10/0635 | 分类号: | G06Q10/0635;G06Q50/04 |
| 代理公司: | 重庆壹手知专利代理事务所(普通合伙) 50267 | 代理人: | 彭啟强 |
| 地址: | 100089 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 点阵 扫描 完成 复合 运动 镀膜 均匀 评估 系统 | ||
本发明的一种基于点阵扫描法完成复合运动镀膜均匀性的评估系统,属于真空镀膜技术领域,共包括两组模型工件,两组模型工件分别被安装在两个多自由度工作平台上,其中一组模型工件围绕多自由度工作平台的中心进行公转,另一组模型工件围绕其中心进行自传;将模型工件进行微分,按等间距进行分割,取交点代表工件镀膜层,并对模型工件上的分割点进行运动分析;以点的位置进行分析,对时间进行积分;评估系统具体包括:模型工件计算程序;单分割点路径计算程序;均匀性判断程序。本发明的有益效果是可通过点阵扫描法完成大多数复合运动镀膜均匀性的定性及定量评估,自动计算程度高,功能多样。
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术领域,具体讲是一种基于点阵扫描法完成复合运动镀膜均匀性的评估系统。
背景技术
随着真空镀膜技术的发展,越来越多形式的真空镀膜机逐渐投入市场,并且伴随着技术的进步,对产品镀膜的均匀性要求也越来越高,以满足产品各种实验的需求。
随着真空镀膜需求的不断增多,关于真空镀膜均匀性的计算也逐步产生了相应的需求,尤其是各种复合的运动均匀性研究,无法直观的判断产品的镀膜轨迹,不能直接判断出镀膜的均匀性,更是需要从理论上满足均匀性的需求。而现有镀膜理论并无一个很直观的计算方法来对镀膜均匀性进行定性和定量的判断,以至于对镀膜产品前期无法评估,导致后期调试工艺复杂。
发明内容
在真空镀膜领域,为了使镀膜设备初期的复合运动方案更加复合均匀性需求,对工件进行点阵拆分,由点阵进行扫描,判断镀膜范围,直观显示复合运动单点的运动轨迹,以实现更准确的方案设计。
本发明的目的在于提供一种基于点阵扫描法完成复合运动镀膜均匀性的评估系统,以解决上述背景技术中提出的问题。
本发明的技术方案是:共包括两组模型工件,两组模型工件分别被安装在两个多自由度工作平台上,其中一组模型工件围绕多自由度工作平台的中心进行公转,另一组模型工件围绕其中心进行自传,两组模型工件的运动同时进行;
将模型工件进行微分,按等间距进行分割,取交点代表工件镀膜层,并对模型工件上的分割点进行运动分析;
以点的位置进行分析,对时间进行积分,等于每一步进行时间累计,步长决定了最终模型分析的精度,步长越短,则精度越高;
评估系统具体包括:
模型工件计算程序;单分割点路径计算程序;均匀性判断程序。
模型工件计算程序:
x2=a-L/2:0.1:a+L/2;
y2=W/2;
subplot(1,2,1);
plot(x2,y2,'Linestyle',':');
x3=a-L/2:0.1:a+L/2;
y3=-W/2;
subplot(1,2,1);
plot(x3,y3,'Linestyle',':');
x4=a-L/2;
y4=-W/2:0.1:W/2;
subplot(1,2,1);
plot(x4,y4,'Linestyle',':');
x5=a+L/2;
y5=-W/2:0.1:W/2;
subplot(1,2,1);
plot(x5,y5,'Linestyle',':');
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