[发明专利]基于点阵扫描法完成复合运动镀膜均匀性的评估系统在审

专利信息
申请号: 202211264725.2 申请日: 2022-10-17
公开(公告)号: CN115689278A 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 郭壮柱 申请(专利权)人: 北京中科科美科技股份有限公司
主分类号: G06Q10/0635 分类号: G06Q10/0635;G06Q50/04
代理公司: 重庆壹手知专利代理事务所(普通合伙) 50267 代理人: 彭啟强
地址: 100089 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基于 点阵 扫描 完成 复合 运动 镀膜 均匀 评估 系统
【权利要求书】:

1.一种基于点阵扫描法完成复合运动镀膜均匀性的评估系统,其特征在于:共包括两组模型工件,两组模型工件分别被安装在两个多自由度工作平台上,其中一组模型工件围绕多自由度工作平台的中心进行公转,另一组模型工件围绕其中心进行自传,两组模型工件的运动同时进行;

将模型工件进行微分,按等间距进行分割,取交点代表工件镀膜层,并对模型工件上的分割点进行运动分析;

以点的位置进行分析,对时间进行积分,等于每一步进行时间累计,步长决定了最终模型分析的精度,步长越短,则精度越高;

评估系统具体包括:

模型工件计算程序;单分割点路径计算程序;均匀性判断程序。

2.根据权利要求1所述的一种基于点阵扫描法完成复合运动镀膜均匀性的评估系统,其特征在于,模型工件计算程序:

x2=a-L/2:0.1:a+L/2;

y2=W/2;

subplot(1,2,1);

plot(x2,y2,'Linestyle',':');

x3=a-L/2:0.1:a+L/2;

y3=-W/2;

subplot(1,2,1);

plot(x3,y3,'Linestyle',':');

x4=a-L/2;

y4=-W/2:0.1:W/2;

subplot(1,2,1);

plot(x4,y4,'Linestyle',':');

x5=a+L/2;

y5=-W/2:0.1:W/2;

subplot(1,2,1);

plot(x5,y5,'Linestyle',':');

holdon。

3.根据权利要求1所述的一种基于点阵扫描法完成复合运动镀膜均匀性的评估系统,其特征在于,单分割点路径计算程序:

t=0:0.01:T;

x=a.*cos(wg.*t)+(wi^2+lj^2)^0.5*cos(wz*t+atan(wi/lj));

y=a.*sin(wg.*t)+(wi^2+lj^2)^0.5*sin(wz*t+atan(wi/lj));

subplot(1,2,1);

plot(x,y,'r','LineWidth',2)。

4.根据权利要求1所述的一种基于点阵扫描法完成复合运动镀膜均匀性的评估系统,其特征在于,均匀性判断程序:

5.根据权利要求1-4所述的一种基于点阵扫描法完成复合运动镀膜均匀性的评估系统,其特征在于,还包括对数据循环过程进行量化处理及判断程序:

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